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CSiC复合材料料表面抗氧化涂层的制备方法
说 明 书
一种C/SiC复合材料表面抗氧化涂层制备方法本发明涉及一种C/SiC复合材料表面1400℃长寿命抗氧化涂层制备方法。C/SiC复合材料具有低密度、抗热震、耐磨损,以及优异的高温力学性能和稳定的摩擦系数等优点,目前已被广泛应用于航空航天等领域。然而,C/SiC复合材料中的炭纤维在400℃以上的空气中即出现明显的失重和强度降低现象,导致材料性能下降甚至完全失效,而C/SiC复合材料作为结构工程构件应用时大多处于氧化气氛中。因此,必须对C/SiC复合材料进行氧化防护。℃以下使用;后者多为用单一的涂层制备技术制备单层单一组元的陶瓷涂层,在使用过程中,或因涂层与基体热膨胀失配而形成裂纹,或因涂层与基体结合差而剥落,使涂层的抗氧化防护作用削弱,涂层的有效使用寿命低。目前,大量的研究尚不能从根本上解决C/SiC复合材料1400℃长时间的氧化问题。
本发明的目的在1400℃氧化气氛中长期使用时,既具有低的氧化失重率和高的强度保持率,又具有优异的抗热震性能C/SiC复合材料表面抗氧化涂层C/SiC复合材料表面抗氧化涂层的制备方法/SiC复合材料表面上涂层:由与基底C/SiC复合材料相结合的SiC涂层,及依次连接的Mo-Si涂层、SiC涂层、Mo-Si涂层、SiC涂层组成,所述的Mo-Si涂层由Si粉、Mo粉和硅溶胶按质量比30~40%:10~20%50~60%混合C/SiC复合材料表面抗氧化涂层的制备方法将经处理的复合材料置于CVD)炉中采用恒温水浴,保持MTS的温度为℃;以Ar为稀释气体,以H2为载气,通过鼓泡的方式将MTS带入CVD炉中SiC涂层沉积压力为200~250Pa,沉积温度为℃,沉积时间()Mo-Si涂层制备将Mo-Si浆料均匀地刷涂在SiC涂层表面,于55℃烘干后放入真空碳管烧结炉中,Ar,以5~10℃/min的升温速度将炉温从室温升至1430℃~1530℃,保温5~30min,随后以~10℃/min的速度降温至℃,自然冷却至室温得到SiC涂层+Mo-Si涂层的Mo-Si浆料Si粉、Mo粉和硅溶胶按质量比30~40%:10~20%50~60%混合配制()将步骤()制备的试样依次重复步骤()、()(),最终制备涂层。涂层组成为SiC涂层-Mo-Si涂层-SiC涂层-Mo-Si涂层-SiC涂层。H2/MTS=(8~10)/1。
将-325~+400目Si粉、-500目Mo粉致密的SiC涂层起过渡层和氧扩散阻挡层的作用。SiC层与C/SiC复合材料具有相近的热膨胀系数,起过渡层和氧扩散阻挡层的作用多孔的Mo-Si涂层一方面为后续的SiC提供了沉积位置,有利于提高涂层之间的结合,减少出现贯穿裂纹和减小热应力,另一方面在1400℃氧化时,不仅由于氧化生成SiO2而发生自愈合,同时可以缓解生成SiO2所引起的体积膨胀。涂层具有优异的抗氧化、抗热震性能,可满足1400℃氧化环境中长期使用的要求。表1:涂层试样1400℃100℃热震后的弯曲强度附图说明图:涂层试样的SEM照片(a)表面;(b)侧面图:涂层试样1400℃、150h的氧化情况;图:涂层试样1400℃100℃的热震曲线具体实施方式实施例1:制备过程和工艺参数为:将C/SiC复合材料表面进行打磨抛光,打磨抛光后尺寸为20×20×5mm,然后超声波清洗,烘干后待用;()将经处理的复合材料置于CVD炉中。采用恒温水浴,保持MTS的温度为℃;以Ar为稀释气体(流量为200~300 ml/min),以H2为载气,通过鼓泡的方式将MTS带入CVD炉中制备SiC涂层。工艺参数:沉积压力为200~250Pa,沉积温度为℃,H2/MTS=(8~10)/1,沉积时间h;()以Si粉(-325目)、Mo粉(-500目)和硅溶胶为原料。按Si粉Mo粉硅溶胶质量比30~40%:10~20%50~60%混合配制浆料,进行不少于30min的搅拌处理,使浆料中各组分均匀分布;的浆料均匀地刷涂在步骤()制备了SiC涂层的表面,于℃烘箱中烘干后放入石墨坩埚中,将石墨坩埚放入真空碳管烧结炉中,抽真空后充Ar至常压,以5~10℃/min的升温速度将炉温从室温升至1430~1530℃,保温5~30min,随后以~10℃/min的速度降温至℃,关电源自然冷却至室温取出。整个过程炉压均保持为常压()将步骤()制备的试样依次重复进行步骤()、()、(),最终制备涂层试样开放式硅钼棒炉升温至1400℃,温度稳定后将涂层试样置于炉内,氧化一定的时间后取出,空冷至室温称重。重复以上氧化过程,直至氧化时间累计为150h。制备的涂层试样1400℃的氧化结果如下:涂层试样经1400℃、150h氧化后,涂层保持完整,没有出现脱落、掉块现象,质量失重率仅为-0.25%。实施例2:制备过程和工艺参数为:将复合材料
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