cmp设备控制软件的模块规划及可视化技术 module planning and visualization technology of cmp equipment control software.pdfVIP

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2017-08-21 发布于上海
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cmp设备控制软件的模块规划及可视化技术 module planning and visualization technology of cmp equipment control software.pdf

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cmp设备控制软件的模块规划及可视化技术 module planning and visualization technology of cmp equipment control software

电子工业专用设孽：￡丛￡皇澶选： CMP设备控制软件的模块规划及可视化技术姜培青，王永青，康仁科，郭东明 (大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室，辽宁大连l16024) Mechanical 摘要：CMP(Chemical Polishing)设备是半导体集成电路(Ic)制造中的关键设备。 CMP设备控制软件的开发是CMP设备研发的关键技术之一。针对三工位CMP机床，自行设计开发了具有抛光压力在线监控、真空吸盘的真空度实时监测、抛光头及抛光盘变频电机转速和转向控制以及机床动作控制等功能的设备监控系统。采用面向对象的方法，给出了监控系统软件模块的划分方法，并对控制功能模块进行了类的封装。重点介绍了多视图通讯的实现以及利用 OpenGL实现软件可视化的CMP软件开发关键技术。关键词：CMP；面向对象；多视图通讯；OpenGL 中图分类号：TN305．2文献标识码：A 文章编号：1004．4507(2008)06．0019—05 Module andVisualization Planning Technology ofCMP ControlSoftware Equipment JiangPei—qing，Wang Ren-ke，GuoDong-ming Yong-qing，Kang forPrecisionNon—traditionalof of Education． (KeyLaboratory MachiningTechnologyMinistry Dalian of 11 UniversityTechnology，Dalian6024，China) iS tothe Abstract：CMP(ChemicalMechanical semiconductorcir- key integrated Polishing)equipment cuit the ofitscontrolsoftwareisoneofthe in Oc)manufacturing，anddevelopment keytechnologies the researchand ofCMP is for ma- developmentequipment．Monitoringsystemproposedthree-plate thatCan theon—line ofvacuum monitor andthereal-timevacuum chine，and polishingpressure degree cancontrol and of