光刻机工件台宏微系统的滑模变结构控制 sliding mode control of macro-micro system for wafer stage of lithography.pdfVIP

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2017-08-21 发布于上海
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光刻机工件台宏微系统的滑模变结构控制 sliding mode control of macro-micro system for wafer stage of lithography.pdf

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光刻机工件台宏微系统的滑模变结构控制 sliding mode control of macro-micro system for wafer stage of lithography

第38卷第9期光电工程 Voi．38，No．9 2011年9月 Opto-ElectronicEngineering Sept，201i 文章编号：1003—501X(2011)09—0050—05 光刻机工件台宏微系统的滑模变结构控制武志鹏，陈兴林，刘川1 ．(哈尔滨工业大学控制科学与工程系，哈尔滨150001) 摘要：为提高光刻机工件台的跟踪精度和响应速度，采用了以直线电机和音圈电机为执行器的宏微控制结构。微动台完成高精度小行程运动，宏动台实现大行程运动同时保证音圈电机不出现位移饱和。通过滑模变结构方法设计控制器以提高控制系统的鲁棒性．根据频率整型法设计了时变滑模面，可以起到低通滤波的效果。变增益切换 nln。控制律可以有效地减小抖振现象。仿真结果表明，曝光扫描过程中的最大位置偏差为8．7mn，标准差为2．2 扫描速度保持平稳，同时位置偏差信号的高频分量被有效抑制。关键词：宏微控制；最优积分滑模面；滑模控制；工件台中图分类号：TP273+．2 文献标志码：A of for ModeControlMacro-micro Sliding System Waferof StageLithography WU Chuan Zhi-peng，CHENXing·Hn，LIU 150001，China) the and macro—microcontrolstructureischosenandthe Abstract：To speed,a improvetrackingprecisionrespond theshort-strokeandensures actuatorsarethelinearmotorandvoicemotor．Themicro movement the smge accomplishes themacro makes movementto thatthevoicemotorisnotclosedto hightrackingprecision．andstage large—stroke keep control is on modecontrol tOensuretherobustofthecontrol saturation．The based systemdesigned sliding theory system． Inordertoachieve surfaceis basedon method．A