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复制特征操作时，不能建立复制的特征有：倒圆 基准面 偏置片体 修剪片体和自由形状等。 孔特征的类型有：常规孔 钻行孔 螺钉间隙孔 螺纹孔 孔系列五种类型 抽壳有两种类型可供选择：1 移除面，然后抽壳。2 抽壳所有面 UG为用户提供了9种定位方式，分别是水平 竖直 平行 垂直 远距平行 角度 点到点 点到线上以及直线到直线。并简要说明 水平方式：运用水平定位首先要确定水平参考。水平参考是用于确定XC轴方向，水平定位是确定与水平参考平行方向的定位尺寸。、 竖直方式;竖直定位方式指确定垂直于水平参考方向上的尺寸。 平行方式：平行定位是用两点连接距离来定位。 垂直方式：垂直定位是用成型特征上的一个点到目标边的垂直距离来定位。 按一定距离平行定位：是指成型特征体一边与目标体的边平行且间隔一定距离 的定位方式。 成角度定位：指成型特征体一边与目标体的边成一定夹角的定位方式. 点到点定位:指成型特征一点落到目标体边上的定位方式。 点到线定位：让成型特征体一点落到一目标体边上的定位方式 线到线定位：让成型特征体一边落在一目标体边上的定位方式。 边倒圆设计的类型有：恒定半径倒圆 变半径倒圆 拐角回切 拐角突然停止 四种类型并简要说明 恒定的半径倒圆，用户可以对选择的边缘创建同一半径的圆角：选择的边可以是一条边或多条边。 变半径倒圆：用户可以对选择的边缘创建不同半径的倒圆，选择的边可以使一条边或多条边。 拐角回切：用户可以对选择的实体三条边缘的相交部分创建光滑过度的圆面。 拐角突然停止：用户可以对选择的实体边缘的一部分创建圆角。 面倒圆的类型有两种：滚动球倒圆 扫掠截面倒圆 简述草图绘制功能的特点 在草图绘制环境中，修改曲线更加方便快捷 草图绘制完成后轮廓曲线与拉伸或旋转等扫描特征生成的实体先关联，当草图对象被编辑后，实体模型也紧接着发生相应的变化，即具有参数化的设计特点。 在草图绘制过程中，可以对曲线施加尺寸约束和几何约束，从而精确确定草图对象的尺寸，形状和相互位置，满足用户的设计要求 简述草图的作用 利用草图，用户可以快速勾画出零件的二维轮廓曲线，再施加尺寸约束和几何约束，就可以精确确定轮廓曲线的尺寸，形状和位置。 草图绘制完成后，可以用来拉伸，旋转或扫掠生成实体造型。 草图绘制具有参数化的设计特点，这对于在设计末一需求进行反复修改的零件时非常有用。可以节省修改时间提高工作效率。 草图可以最大限度地满足用户的设计要求，这是应为所有的草图对象都必须末一指定的平面上进行绘制，而该指定的平面可以使任一平面，即可以是坐标平面和基准平面，也可以是末一实体的表面，还可以是末一片体或碎片。 实例特征操作分为3个类型 矩形阵列 圆形阵列 图样面并简要说明 矩形阵列是根据阵列数量、偏置距离对一个或多个特征创建引用阵列，它是线性的，沿着WCS坐标系系的XC和YC 方向偏置。 圆形阵列是把选择的特征建立圆形的引用阵列，它根据指定的数量，角度和旋转轴线来生成应用阵列。 图样面是针对一个面的复制，有点类似引用阵列，但条件更加宽松，它不需要复制的对象是关于特征的模型。 草图绘制功能提供了那两种约束？简要说明它们的作用。 草图绘制功能有尺寸约束和几何约束两种约束。 尺寸约束用来确定曲线的尺寸大小，包括水平长度、竖直长度、平行长度、两直线之间的角度、圆的直径以及圆弧的半径等。 几何约束用来确定草图对象之间的相互关系，如平行、垂直、同心、固定、重合、共线、中心、水平、相切、等半径、固定长度、固定角度、曲线斜率以及均匀比例等。 简述UG实体建模的特点 UG可以利用彩图工具建立二维截面轮廓曲线，然后通过拉伸、旋转或者扫掠等得到实体。这样得到的实体具有参数化的特点，当草图中二维轮廓曲线改变后，实体特征自动进行相应的更新。 特征建模提供了各种标准设计特征的数据库，用户在创建时只需要输入特征的参数即可得到模型，提高建模速度， 在UG建立的模型可以直接被引用到UG的二维工程图、装配、加工、机构分析和有限分析中，并保持关联性。 UG提供特征操作和特征修改功能，可以对实体模型进行各种操作和编辑，简化了复杂实体特征的建模过程。 UG可以对创建的实体模型进行渲染和修饰，方便用户观察模型，此外，还可以从实体特征中提取几何特征和物理特征，进行几何计算和物理特性分析。 特征操作一般包括哪几类操作？并简要说明。特征操作包括以下几类操作： 边倒圆操作：包括倒斜角和边倒圆等 面特征操作：包括面倒圆、软倒圆和抽壳等。 复制和修改特征操作：包括实例特征和修剪体等。其他特征操作：包括拔模、缝合、缩放体和螺纹等