线性啁啾相位掩模的设计 design of linearly chirped phase mask.pdfVIP

第33卷第11期 光电工程 V01．33．No．11 2006年11月 Opto-E1ectronicEngineer．ng 文章编号：1003—501X(2006)11—0088一05 线性啁啾相位掩模的设计 方玲玲，吴建宏，刘 全，陈 刚 (苏州大学信息光学工程研究所，江苏苏州215006) 摘要：啁啾相位掩模法是啁啾光纤光栅的一种非常重要的制作方法。本文研究讨论了用全息干涉 方法制作线性啁啾位相掩模的设计方法，提出用两球面波干涉产生条纹密度随空间距离线性变化 的干涉条纹记录啁啾位相光栅，按设定光栅端点空频和端点空频差两种优化设计方法设计了长度 为2．5％和1．6％，理论设计和实验结果相符。 关键词：啁啾光纤光栅；变栅距全息光栅；缌}生啁啾相位掩模 中图分类号：TN929．11，0436．1文献标识码：A of mask Designl