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有源层刻蚀工艺优化对TFT-LCD品质的影响.pdf
第28卷第5期 液晶与显示 V01_28．NO．5
2013年i0月 Chinese of
Journal and Oct．，2013
LiquidCrystalsDisplays
文章编号：1007—2780(2013)05—072006
有源层刻蚀工艺优化对TFT—LCD品质的影响
’
李田生，谢振宇，李 婧 阎长江，徐少颖，陈 旭，闵泰烨
(北京京东方光电科技有限公司，jE京100176，Email：lit
iansheng@boe．COITI．cn)
摘 要：TFT—I。CD产品为现代显示的主流，如何提高其显示品质成为大家普遍关注的问题，尤其近期发现的
过孔发黑(黑点)问题尤为突出，严重影响了产品的良率，降低了产品的品质，文章通过研究发现产生黑点不良的
罪魁祸首不是过-fEN蚀的问题，而是有源层刻蚀工艺所导致的，并有针对性地进行了试验设计，分别考察了有源
层刻蚀条件、附加一步刻蚀方式对黑点不良的解决效果，根据实验效果附加一步刻蚀方式完美地解决了黑点不
良问题，从而将产品的良率提升了3％～4％，而电学性能评价(j。。：开态电流、L”关态电流、V。阈值电压、迁移
率)和正常条件相比没有异常，从而获得了最终完美的解决该不良的方案，提高了产品品质。
关 键词：有源层；刻蚀；黑点
中图分类号：TNl41．9文献标识码：A DOI：10．3788／YJYx0720
EffectofActive EtchConditions
Layer
onTFT—LCD
Improvement Quality
LITian—sheng，XIEZhen—yu，LI
Jing，YANChang—jiang，
XU Xu，MIN
Shao—ying，CHENTai—ye
(BeijingBOEOptoele(IroniesTechnology
Co．，Ltd，Beijing
thetrendofTFT—I．CD
Abstract：In to the of
displayproducts，howimprovequalitydisplay
isthemainissuewe concern forthedefectofblackholewhich
commonlyabout，especially
was discoveredandserious on reduce
and the main
recently impactproductyield quality．The
reasonsofblackholewerestudied．Toour wasthe
surprised，activelayeretchingpr
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