gasb基的inasgasbⅱ类超晶格背景载流子浓度的测量 measurement of the background carrier concentration of type-ⅱ inasgasb superlattices based on gasb.pdfVIP

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  • 2017-08-23 发布于上海
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gasb基的inasgasbⅱ类超晶格背景载流子浓度的测量 measurement of the background carrier concentration of type-ⅱ inasgasb superlattices based on gasb.pdf

gasb基的inasgasbⅱ类超晶格背景载流子浓度的测量 measurement of the background carrier concentration of type-ⅱ inasgasb superlattices based on gasb

第42卷第1期 激光与红外 V01.42,No.1 2012年1月 IASER& INFRARED January,2012 文章编号:1001-5078(2012)01-0045-06 ·红外材料与器件· 徐志成,陈建新,何 力 (中国科学院上海技术物理研究所,中国科学院红外成像材料与器件重点实验室.上海200083) 摘要:高质量的InAs/GaSbII类超晶格(SLs)材料生长在晶格匹配的GaSb衬底上,由于 GaSb衬底具有良好的导电性,传统的霍尔测量难以直接得到外延超晶格材料的载流子浓度等 电学参数,所以,如何准确地获得InAs/GaSb超晶格外延材料中的载流子浓度成为了研究人员 关注的焦点之一。主要介绍了InAs/GaSbII类超晶格背景载流子浓度测量的四种典型的方 法:低温霍尔技术;变磁场霍尔

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