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国际半导体技术发展路线图2008年更新版综述(一)
国际半导体技术发展路线图
2008年更新版综述【一)
王洪波
四十多年以来,半导体T业最明显的特征之一,
就是它的产品的更新换代非常迅速。重要的改进趋 本。在1998年,由美国半导体工业协会提议,邀请了
势以及每种趋势的典型范例如表A所示。绝大部分 欧洲、日本、韩国和中国台湾地区等国家和地区的人
的改进和提高都是由一个重要特征决定的,即:制造 士参加,对路线图进行了更新,最终形成了1999年
集成电路的最小尺寸可以不断地呈指数性地迅速缩 的第一版国际半导体技术发展路线图(The
International for
小。显然,我们最常引用的趋势就是集成度,也就是 Semiconductors,
TechnologyRoadmap
通常所说的摩尔提出来并以他的名字命名的“摩尔 ITRS)。在此之后,国际半导体技术发展路线图在每
定律”(每个芯片上的元件数量大约每隔24个月增 偶数年份进行更新,每单数年份进行全面修订。ITRS
加1倍)。对于社会来讲,最为重要的发展趋势是降 的整体目标是提供被T业界广泛认同的对未来十五
低单位功能的成本,使人们可以享用到更多的计算 年内研发需求的最佳预测。因此,对公司、研发团体
机、电子通讯产品和消费电子产品,从而大幅度提高 和政府都有指导作用。路线图对提高各个层次上研
了劳动生产率和人们的生活质量。 发投资的决策质量都有重要意义,并且帮助将研究
表A.特征尺寸缩小带来的IC改进趋势 方向引导至最需要突破的领域中去。
趋势 范例 从路线图文件的发展来看,可以很明显地感觉
集成度 元件数/芯片,摩尔定律 到,路线图的编纂是一个动态的过程。路线图反映了
成本 单位功能的成本
半导体工业正在从几何尺寸的按比例缩小
速度 微处玛i器4≠flf.率
功耗 笔址本l乜脑或手机电池寿命 (geometricalscaling)向等效的按比例缩小
小巧紧凑 小型和轻犁产品 (equivalentscaling)的方向上发展。几何尺寸的按比
功能 非易火性存储器,图像处理器 例缩小(例如根据摩尔定律的按比例缩小)已经在
所有上述改进趋势,有时候被称为“按比例缩小 以前的三十年中成为业界的指导目标,并将继续在
芯片制造的很多方面起着指导作用。等效按比例缩
趋势(scaling)”,已经通过巨额研发投资实现。在过
去的三十年中,投资需求的不断增长促进了工业界 小的目标,例如通过创新设计、软件解决方案和创新
的联盟,并促进了大量的研发合作、协会和其它种种 的工艺改进性能,将继续指导半导体工业在这个十
合作形式的诞生。为了指导这些研发项目,美国半导 年期和未来十年的发展。自从2001年以来,路线阐
Semiconductor
体工业协会(the Association,通过引入新的章节,例如“系统驱动”(2001年)、
Industry
SIA)发起编写了美国国家半导体技术发展路线图 “新兴器件研究”和“用于无线通信的模拟/混合信
(National forSemiconductor,
TechnologyRoadmap
-,¨^,^….…:……一
万方数据
究”,来更好地反映半导体工业的这一趋势。2008年
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