高中化学-专题讲座（八）硅单质的精制-鲁科版必修1.docVIP

硅单质的精制高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料。工业生产的硅含有多种杂质需经提纯处理得到高纯硅。工业生产纯硅制法如下：(1)制粗硅：SiO＋2C(粗)＋2CO↑。(2) 粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl：＋3HCl＋H。(3)SiHCl3与过量H在1 100～1 200 下反应制得纯硅。[练习]________________________________________ 1．晶体硅是一种重要的非金属材料。制备纯硅的主要步骤如下：高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅；粗硅与干燥的HCl气体反应制得：Si＋3HCl＋H；与过量H在1 000～1 100 反应制得纯硅。已知SiHCl能与H剧烈反应在空气中易自燃。请回答下列问题：(1)第步制备粗硅的化_______________________ ______________________________________________________。(2)用SiHCl与过量H反应制备纯硅的装置如图所示(热源及夹持装置均已略去)： ①装置B中的试剂是________装置C中的烧瓶需要_____________________________________________ _________________________________________________。反应一段时间后装置D中观察到的现象是__________________， 装置D不能采用普通玻璃管的原因是______________________装置D中发生反应的化学方程式为_______________________。为保证制备纯硅实验的成功操的关键是检查实验装置气密性控制好反应温度以及___________________________________。解析：(1)在高温条件下用C还原SiO生成Si和CO。(2)因为由Zn、稀硫酸制得的H中会混有少量H而SiHCl能与H剧烈反应所以要对H进行干燥根据装置应选择液态干燥剂——浓硫酸。装置C用水浴加热SiHCl使其汽化和H进入装置D反应因为SiHCl与H在1 000～1 100 下反应温度很高普通玻璃会软化因此不能使用普通玻璃管。因为SiHCl在空气中易自燃实验中还要注意先通一段时间H以排尽装置中的空气。答案：(1)SiO＋2C＋2CO↑　(2)浓硫酸　使滴入烧瓶中的SiHCl汽化　有固体物质生成　在此反应温度下普通玻璃会软化　SiHCl＋HSi＋3HCl　排尽装置中的空气硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅三氯甲硅烷(SiHCl)还原法是当前制备高纯硅的 ①写出由纯SiHCl制备高纯硅的化学方程式：______________。整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl遇水剧烈反应生成H、HCl和另一种物质写出配平的_______________________________________________________ ______________________________________________________；还原SiHCl过程中若混入O可能引起的后果是_____。(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。碳化硅硬度大可用于生产砂纸、砂轮等氮化硅硬度大、熔点高可用于制作高温陶瓷和轴承高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的其熔点很高盐酸可以与硅反应故解析：(1)H2还原SiHCl可制备Si化学方程式为＋Si＋3HCl。SiHCl3和H反应生成H、HCl和H；用H还原SiHCl过程中若混入O则高温下H与O反应发生爆炸。(2)A项碳化硅硬度很大可用于生产B项氮化硅熔点高硬度大可用于制作高温陶瓷和轴承。D项普通玻璃的主要成分是Na3、CaSiO、SiO是由石英砂(SiO)、石灰石、纯碱高温下反应生成的化学方程式为Na＋SiONa2SiO3＋CO＋SiOCaSiO3＋CO但玻璃没有固定的熔点。E项与HCl不反应。 答案：(1)SiHCl3＋HSi＋3HCl　SiHCl3＋3H＋3HCl＋H　高温下H与O混合发生爆炸　(2)ABC 2