development of a low cost pulsed laser depositionb system for thin films growth开发低成本薄膜脉冲激光depositionb系统增长.pdfVIP

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2017-08-28 发布于上海
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development of a low cost pulsed laser depositionb system for thin films growth开发低成本薄膜脉冲激光depositionb系统增长

Modern Instrumentation, 2012, 1, 41-48 /10.4236/mi.2012.14006 Published Online October 2012 (http://www.SciRP.org/journal/mi) Development of a Low Cost Pulsed Laser Deposition System for Thin Films Growth 1,2,3* 2 Marcos Iván Oliva , Carlos Iván Zandalazini , Juan Carlos Ferrero1, Hector Raúl Bertorello1,2 1Centro Láser de Ciencias Moleculare, Departamento de Fisicoquímica, Facultad de Ciencias Químicas, Universidad Nacional de Córdoba, Ciudad Universitaria, Córdoba, Argentina 2Grupo de Ciencia de Materiales, Facultad de Matemática Astronomía y Física, Universidad Nacional de Córdoba, Ciudad Universitaria, Córdoba, Argentina 3Instituto de Física Enrique Gaviola, Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas (CONICET), Córdoba, Argentina * Email: omarcos@.ar Received August 16, 2012; revised September 26, 2012; accepted October 11, 2012 ABSTRACT Pulsed Laser Deposition (PLD) is a powerful technique to grow thin films. Oxides, Magnetics and superconducting materials have been obtained by PLD and theirs properties are strongly dependent of deposition parameters. The con- struction of a simple and cheap PLD system that is suitable for growing various thin films, including magnetic materials, controlling some deposition parameters is presented. The design characteristics and construction are presented for each one of the devices that compose this