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单层TiO2薄膜的温度场分析 摘要：这个方法是通过计算单层TiO2膜中的温度分布来评估对一个随机波长的光吸收。单层TiO2薄膜的温度分布的分析是建立在温度场理论的基础上的。通过我们的计算，得到的光吸收的变化和薄膜的表面温度上升情况相似。表面温度上升取决于膜的厚度，折射率，消光系数，比热和热传导率。另外，推导出了相同的单层TiO2薄膜对不同波长的光的吸收。例如， 1986年的美国光学学会的年度会议的12个不同的实验室准备了19个单层TiO2薄膜来计算表面温度上升，得到的结果与测得的光吸收吻合较好。 1.介绍 随着高功率激光，激光系统需要各种高性能涂料同时满足许多严格的标准一个主要标准是低水平的吸收。光吸收减少介质涂层反射和透射事实上，它不仅作为光学性能的限制因素，也降低了光学薄膜激光损伤阈值。所吸收的能量通过薄膜的传播被转换成热量，并温度上升导致。为了提高激光损伤阈值的吸收率光学涂层必须进行分析和控制。现在，已经开发了几种方法。光热的方法，作为非破坏性的和高灵敏度的检测技术，似乎要适合于这种低吸收率的测试应用。大多数的光热方法所需要的时间泵浦光及探测光。这些方法的基本过程是要测量泵浦光波长的光吸收所引起的样品的加热域一个探测光束探测该技术可以通过选择适当的泵浦激光器在其设计波长测试涂层。然而，泵激光器的波长在许多实验室中总是固定的，在其它波长处的光吸收的检测相同的测试系统中是不可能实现的。事实上，评估在一个随机波长的光吸收是一个迫切的需求。在本文中，中的温度场的计算，和表面温度的局部变化可以理论上，这薄膜的光吸收成比例的。因此，光吸收的变化，可以通过表面温度上升的变化评估。二氧化钛是和抗激光损坏的高折射率的材料被广泛用于生产多层涂层在可见光谱区域，如抗反射涂层和光学滤波器因此，许多光学薄膜的制备和吸收测量用不同的方法进行本文的目的是介绍一种方法时评估在一个随机的波长对于同一个单层TiO2薄膜的光吸收，在同一时间，厚度光学吸收和热光学特性（折射率，消光系数，比热和热导率）单层TiO2薄膜的温度上升之间的关系进行了讨论。所有讨论将吸收测量理论。光学薄膜的激光诱导温度场是由光吸收和热传导过程决定的热响应不仅与激光辐照参数而且还取决于涂层的光学和热学性质。据报道有几种方法被实际用于计算薄膜涂层内部的温度分布。在这项工作中，我们所用的方法在参考文献中详细描述。为了简单起见，以下假设已经作出（1）薄膜材料的光学和热学参数不随温度的变化；（2）每一层的薄膜涂层均匀且各向同性；（3）假定膜是一个吸收涂层作为热源，衬底的吸收是可以忽略不计的。在本文中，连续波（CW）激光束，调制在某一频率用于计算。计算参数根据一个实际的光热检测程序。本文重点温度场计算分析钛薄膜的光吸收。.不同厚度的薄膜为了评价不同厚度的单层TiO2薄膜的光吸收的变化λ ? 为1064纳米在λ= 8光学厚度从50纳米到2100纳米厚度的薄膜计算了温度场分布在我们的计算中，衬底的厚度为20μm。总结表1中所使用的参数。随着膜厚度的增加，热源的厚度也增加。如果考虑膜的光学干涉效应，热吸收和表面温度上升应呈线性增加。然而，吸收的热量也驻波电场薄膜随着膜厚度的增加表面温度上升增加不同光学和热性能的薄膜具有不同折射率，消光系数，比热和热导率的单层TiO2薄膜的温度分布。所有的激光和衬底在计算中使用的参数列于表1。用于计算的涂层参数列于表2。并给出了不同厚度的薄膜，300 nm和2000 nm。对于具有不同厚度例如为300nm和2000nm的TiO2薄膜折射率从2.1至2.5的增加，表面温度上升的变化的是完全不同的，如图2和2(b)一方面，薄膜将更紧折射率变大时。这些紧的结构吸收热量会更低。TiO2薄膜（300nm）。另一方面，在薄膜折射率变化干涉条件改变表面温度上升近正弦形式，这是由薄膜的驻波电场改变了这是明显较厚的TiO2薄膜（2000 nm）如图2。这两方面之间权衡。至于表面温度的上升和消光系数，比热和热导率，分别示于图3，4，和5 ，它们是类似的具有不同厚度的膜众所周知，高消光系数意味着高吸收，高吸收意味着高的热沉积。所以随消光系数的增加，表面温度单调升高，如图3所示图4给出了表面温升和比热之间的关系表明不同的比热容值有小变化。也就是说,比热温度场分布的影响较小。图5所示的表面温升热传导率的增加而减少。当提高热传导率，热扩散速度增加热分布范围扩大。所有的表面温升的变化光吸收。图1薄膜厚度与表面温升T 图2 折射率n与表面温升T；TiO2薄膜的厚度为300nm（a）和2000nm（b） 图3 消光系数k与表面温升T；TiO2薄膜的厚度为300 nm和2000 nm 图4 比热c表面温升T；TiO2薄膜的厚度为300nm和2000nm 图5 热传导率K与表面温升T；TiO2薄膜的厚度为3