行政院环保署公告.docVIP

附表 第一批至第八批公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源公告條件表 批次 行業別 類別 適用對象 製 程 別 公告條件說明 備 註 一 各行業 第一類 新設、變更及已設立固定污染源 同一公私場所所屬公用設施，具有左列程序之一者： 鍋爐發電程序 二、氣渦輪發電程序 三、引擎發電程序 四、鍋爐蒸氣產生程序 五、熱媒加熱程序 一、同一公私場所，設有下列燃燒設施之一者： (一)燃用生煤或石油焦之鍋爐。 (二)屬同一排放口之鍋爐、非交通用氣渦輪機 或非交通用引擎，其總設計或總實際輸入熱值一千萬仟卡／小時以上。 (三)屬同一排放口，總設計或總實際蒸氣蒸發量十三公噸／小時以上之鍋爐。 二、屬下列設施者，不在此限： 屬緊急備用之前述公用設施者。 排氣量小於2500CC固定式內燃機。 實驗室用之設備。 手提式焊接設備。 打樁機具。 目測判煙訓練設備。 消防訓練或火災。 應申請之設備： 鍋爐、非交通用氣渦輪機、非交通用引擎、煤或石油焦之碾碎研磨設施(如磨煤機)及粉粒狀物貯料倉(如煤粉貯倉或飛灰貯倉)等。 一 鋼鐵冶煉業及其他具有下列製造程序之行業 第一類 新設、變更及已設立固定污染源 電弧爐煉鋼程序 同一公私場所，從事廢鐵、廢鋼或銑鐵冶煉，主要生產設備為電弧爐。 應申請之設備：電弧爐、加熱設施。 具有軋造程序者，應一併提出申請。 一 水泥製造業及其他具有下列製造程序之行業 第一類 新設、變更及已設立固定污染源 水泥製造程序 同一公私場所，從事水泥燒製或研磨，主要生產設施為燒成設施(旋窯)或研磨設施(生料磨或水泥磨)。 應申請之設備：粉碎研磨設施(如衝碎機、碾碎機、生料磨、水泥磨、煤磨)、粉粒狀物貯倉(原料倉、生料倉、熟料倉、水泥倉)乾燥爐、燒成設施(旋窯)及冷卻設施等。 一 石油化工製造業及其他具有下列製造程序之行業 第一類 新設、變更及已設立固定污染源 碳黑化學製造程序 使用碳氫化合物為原料，從事碳黑生產。 處理上述製程廢氣、廢液或廢棄物之焚化設施，應一併提出申請。 鄰苯二甲酐化學製造程序 使用苯或鄰二甲苯為原料，從事鄰苯二甲酐生產。 對苯二甲酸化學製造程序 使用對二甲苯、甲苯或苯甲酸等為原料，從事對苯二甲酸生產。 丙烯月青化學製造程序 使用丙烯、液氨及氧氣為原料，從事丙烯月青生產。 環己酮化學製造程序 使用酚或環己烷等為原料，從事環己酮生產。 醋酸乙烯化學製造程序 使用乙醛、醋酸酐或以醋酸、乙炔等為原料，從事醋酸乙烯生產。 酮類化學製造程序 使用醇類、烯類或苯類等為原料，從事酮類生產。 甲醛化學製造程序 使用甲醇為原料，從事甲醛生產。 二氯乙烷化學製造程序 使用乙烯及氯氣為原料，從事二氯乙烷生產。 乙酸乙酯化學製造程序 使用乙醇、醋酸或乙醛等為原料，從事乙酸乙酯生產。 酉夫酸酯類化學製造程序 使用酉夫酸酐及醇類為原料，從事酉夫酸酯類生產。 乙二醇化學製造程序 使用環氧乙烷為原料，從事乙二醇生產。 環己烷化學製造程序 使用苯為原料，從事環己烷生產。 合成乳膠化學製造程序 從事合成乳膠生產。 乙苯化學製造程序 使用苯及乙烯為原料，從事乙苯生產。 氯化膽鹼素化學製造程序 使用氯化三甲胺鹽及環氧乙烷為原料，從事氯化膽鹼素生產。 對二乙苯化學製造程序 使用碳氫化合物為原料，從事對二乙苯生產。 環氧乙烷化學製造程序 使用乙烯為原料，從事環氧乙烷生產。 正丁烯化學製造程序 從事正丁烯生產。 甲基丙烯酸酯類化學製造程序 從事甲基丙烯酸酯類生產。 苯乙烯化學製造程序 使用苯及乙烯或乙苯為原料，從事苯乙烯單體生產。 酚類化學製造程序 從事酚類生產(含酚、壬酚等)。 己內醯胺化學製造程序 使用苯及甲苯或環己烷或環己酮為原料，從事己內醯胺生產。 烷基苯化學製造程序 使用碳氫化合物為原料，從事烷基苯生產。 甲醇化學製造程序 使用天然氣、甲烷、液化石油氣、一氧化碳、二氧化碳、氫氣或合成氣等為原料，從事甲醇生產。 乙醛化學製造程序 使用碳氫化合物為原料，從事乙醛生產。 第二丁醇化學製造程序 使用正丁烯及水為原料，從事第二丁醇生產。 異丙醇化學製造程序 使用丙烯或其他物質為原料，從事異丙醇生產。 氯乙烯化學製造程序 使用氯氣及乙烯或乙烯、氯化氫及氧氣等為原料，從事氯乙烯單體生產。 抗(臭)氧化劑或促進劑化學製造程序 從事抗(臭)氧化劑或促進劑生產。 甲基第三丁基醚化學製造程序 使用異丁烯及甲醇為