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靛蓝磺化物还原隐色和氧化脱色的薄层光谱电化学研究-化工学报
第 卷 第 期 化 工 学 报
61 4 Vol.61 No.4
年 月
2010 4 CIESC Journal A ril 2010
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檭 研究论文檭 靛蓝磺化物还原隐色和氧化脱色的
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薄层光谱电化学研究
马光和,何建波
(合肥工业大学化工学院,可控化学与材料化工安徽省重点实验室,安徽 合肥 230009)
摘要:自制长光程薄层电化学池,对靛蓝磺化物 (IC)的还原隐色和氧化脱色过程及其逆过程进行循环伏安和
双电势阶跃 光谱电化学测量。结果表明, 在不至过低的电势下 ( / /饱和 ),
UVVis IC >-1.0V狏狊A A Cl KCl
g g
- +
可通过 / 可逆反应还原为隐色体,其逆向电氧化过程的速率常数大于电还原速率常数 个数量级以上;
2e 2H 1
隐色体也可被溶解氧化学氧化,导致电还原效率降低。在 的电氧化脱色方面,提出一种复杂的电化学 化学
IC
电化学机理,氧化生成的中间体通过水解发生中心C C双键的断裂而转化为靛红磺酸,后者在 1.0V以上的较
高电势下进一步被不可逆电氧化降解为一系列小分子。
关键词:光谱电化学;靛蓝磺化物;脱色;紫外可见光谱;氧化还原
中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( )
O646 A 0438-1157 2010 04-0923-06
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