反式二丁烯与氢气流量比对辉光放电等离子体组分与聚合物薄膜表面粗糙度的影响 effect of flow ratio of t2 bh2 on glow discharge plasma composition and surface roughness of polymer thin film.pdfVIP
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反式二丁烯与氢气流量比对辉光放电等离子体组分与聚合物薄膜表面粗糙度的影响 effect of flow ratio of t2 bh2 on glow discharge plasma composition and surface roughness of polymer thin film
509 Vol.50 ,No.9
20169 Atomic Energy Scienceand Technology Sep.2016
, ,,,*
(, 621900)
2 2
:(LPPE‐CVD),(T B)(H )
2 2
,T B/H (GDP)。
。 SEM
GDP。 ,T B/H ,
2 2
。 T B/H 0.8 ∶10 ,,
2 2
2 2
。 T B/H
。 0.6 ∶10 T B/H , 39.1 nm。
2 2 q
:GDP;;;
:O484 :A :1000‐6931(2016)09‐1658‐06
:10 .7538/ zk.2016 .50 .09 .1658
y
/
CHEN Guo,ZHANG Ling, HEXiao‐shan, HEZhi‐bing,TANG Yong‐ianj *
( , , 621900 , )
2 2
: Using trans‐two butylene (T B) and hydrogen (H ) as the work gas, the
2 2
glow dischargepolymer (GDP) thinfilm wasobtainedat variousflow ratiosof T B/H
by low pressure plasma enhanced chemical vapor deposition (LPPE‐CVD). The
2 2
dependence of plasma composition and ionization ratio on the flow ratio of T B/H
during the deposition of film was investigated using mass spectrometer . As well as,
white‐light interferometer (WLI) and scanning electron microscope (SEM ) were
employed to determinethedependenc
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