皮秒激光-化学复合法制备高效减反射晶硅表面微-中国光学期刊网.PDFVIP

第42卷 第4期 中 国 激 光 Vol.42,No.4 2015年4月 CHINESEJOURNALOFLASERS April,2015 皮秒激光-化学复合法制备高效减反射晶硅表面 微结构研究 吕晓占 季凌飞 吴 燕 林真源 闫胤洲 北京工业大学激光工程研究院,北京 100124 摘要 基于皮秒激光的“冷加工”特点，进行了用皮秒激光辐照结合快速化学腐蚀(NaOH溶液：质量分数为4%，不 大于3min，80℃水浴)调控工艺制备高效减反射晶硅表面微结构的研究，在400~1000nm波长的宽光谱范围内，获 得了微-纳双结构微孔阵列和圆顶锥形周期性阵列两种减反射表面，前者的平均反射率低于5%，后者的平均反射 率低于10%。制备过程中工艺可控性强，无需掩膜和真空环境。研究了激光工艺参数和化学腐蚀参数的不同调控 匹配在微结构单元形成中的作用机制，分析了所制备表面微结构的减反射机理，为太阳能电池和其他半导体器件 中硅基减反射表面微结构的低成本激光可控制造提供了重要的指导。 关键词 激光技术;皮秒激光;功能表面微结构;高效减反射; 晶硅 中图分类号 TN249 文献标识码 A doi: 10.3788/CJL201542.0403006 FabricationofHighPerformanceAnti-ReflectionSiliconSurfaceby PicosecondLaserScanningIrradiationwithChemicalCorrosion LüXiaozhan JiLingfei WuYan LinZhenyuan YanYinzhou InstituteofLaserEngineering,BeijingUniversityofTechnology,Beijing 100124,China Abstract Basedonthe“coldprocessing”propertyofpicosecondlaser,theinvestigationonthehybridtechnique usingpicosecondlaserirradiationfollowedbyshort-timechemicalcorrosion(NaOHsolution,massfraction: 4%, lassthan3min,waterbath:80 ℃)tofabricatehighperformancesiliconantireflectiontexturesiscarriedout.Over abroadwavelengthrangeof400~1000nm,theaveragereflectanceofthetwofabricatednovelsurfacetextures, whicharethemicro-nanohierarchicalstructuretextureandthedome-conearraytexture,bothreducetobelow 10%.Eventheaveragereflectionoftheformerreducestobelow 5%.Thefabricationcanbecarriedoutwithhigh controllabilityandwithoutusingtheetchmaskandvacuumcircumstance.Themechanismofdifferentregulation matchingofthelaserprocessparametersandchemicalcorrosionparametersactingontheformationofthenovel antireflectiontexturesisstu