【2017年整理】铝上离子镀铀及铀上离子镀铝的TEM-SEM研究.pdfVIP

CNIC-01511 CAEP-0061 铝上离子镀铀及铀上离子镀铝 的TEM，SEM 研究 向士凯 任大鹏 鲜晓斌 姜桂芬 肖 红 ( 中国工程物理研究院，成都，610003) 摘 要 对铝上磁控溅射离子镀铀及铀上磁控溅射离子镀铝的膜的沉积 生长方式及界面的显微组织情况进行了研究。铝上磁控溅射离子镀 铀界面上与铝接触的深层铀膜呈不定形结构，没有形成铀晶粒。铀 膜表面由许多直径只有 10～20 nm 微晶态的铀的小颗粒组成，部 分微晶态的铀已经开始长大，并呈现出多晶化的特征。Cu 和Fe 杂 质降低了铀镀层与铝基体之间的应力，界面结合处未产生大量明显 的裂纹。铀上磁控溅射离子镀铝界面附近呈现多种显微组织。铝膜 在铀基体上生长时，首先在有部分氧化的铀基体上形成某一种或几 种铀铝化合物颗粒，随后形核生长成铝的小晶粒，部分小晶粒首先 逐渐长大，形成倒立锥体状较大晶粒，大晶粒的上端逐步接近，形 成一个整体的生长平台，在这个生长平台上，晶粒上端的外围原子 在生长过程调整排列的取向，生长出渐渐变细的正立的锥体。铝膜 生长过程中在铀基体结合处有较大应力，导致大量明显裂纹。 The Microstructure of U Film and Al Film Prepared by DC Magnetron Sputtering (In Chinese) XIANG Shikai REN Dapeng XIAN Xiaobing JIANG Guifeng XIAO Hong (China Academy of Engineering Physics, Chengdu, 610003) ABSTRACT The microstructures and the growth mechanism of U film and Al film prepared by DC magnetron sputtering on Al and U substrate respectively were studied. The microstructure of surface layer of U film was microcrystalline and poly-crystalline, while the inner surface was amorphous. Because of the amorphous layer, the U film linked well with Al substrate. From five kinds of microstructure of Al film in various depths, the growth way of Al film on U substrate has also been concluded. 引 言 铀化学性质活泼，这使得铀的防腐问题一直受到特别关注。在铀的表面粘附一种保 护层，可以将铀与环境介质隔离，减缓空气中的 O2 ，H2O 和 CO2 等气体对铀的腐蚀。传 统的铀的防腐技术是在铀的表面电镀一种保护层，如 Ni/Zn 镀层[1] 、Ni/P[2]镀层等。20 世 纪 80 年代初，美国采用的是真空沉积的铝作保护层，但是无论是电镀的保护层还是真空 沉积的保护层，都与基体之间没有冶金结合，层与层之间是基本无扩散的机械结合，粘 附力不强，所以镀层易于脱落。 随着表面技术的发展，特别是磁控溅射离子镀技术的问世，使得在铀的表面采用磁 控离子溅射镀的方式镀一种保护层，成了一种铀的新的防腐手段。修树友等曾进行过铀 表面离子镀铝工艺方面的研究，结果表明在湿热加速腐蚀的条件下，镀铝纯铀与未镀铝 纯铀相比，其抗热湿腐蚀性能可以提高近 50 倍[3] 。美国橡树岭Y ―12 工厂的研究发现： 采用磁控溅射离子镀技术得到铝镀层