验收-国家试验研究院.DOCVIP

財團法人國家實驗研究院 國家奈米元件實驗室 阻劑塗佈及顯影系統 招標規範書 說明： 本規範適用於財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室阻劑塗佈及顯影系統壹組之採購，本規範如有任何疑慮依業主解釋為準。 採購標的數量及規範： 本購案採購標的為適用於SEMI標準規格8吋刻痕式（V notch）晶圓之阻劑塗佈及顯影系統壹組，製造年份必須為西元200年之後出廠之設備，投標廠商提供的部品須符合或優於下列規範： 晶圓載台站1座【驗收項目3】，為晶圓載入與載出之介面，至少包含以下部品： 晶圓載台與開放式晶舟4組，每個晶舟可裝載25片晶圓。 晶圓傳送裝置1組，可穩定的將晶圓自晶舟傳送至各個製程單元，附有強制停止開關。 晶圓數量及位置感測器1組。附著力增進烘烤製程烤製程 主要製程站1座，功能為執行微影相關製程，一般包含阻劑塗佈製程、阻劑顯影製程附著力增進製程、烘烤製程與冷卻製程；系統至少需包含以下部品： 阻劑塗佈單元（coater）2組。由於規劃功能不同，因此兩組的配置略有不同，主要差別在於阻劑供應線數量，一組是4條，一組是8條；硬體需求列舉如下： 第一組阻劑塗佈單元包含4條獨立之阻劑供應線，第二組阻劑塗佈單元包含8條獨立之阻劑供應線；每條阻劑供應線上皆配有：電動式阻劑推送幫浦1個，可噴灑阻劑量為1-8 ml、誤差±10％；過濾孔徑0.1μm的阻劑過濾器1個；阻劑噴嘴1個。【驗收項目4】 每