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財團法人國家實驗研究院 國家奈米元件實驗室 103年度高密電漿化學氣相沈積系統、感應耦合電漿化學氣相沈積系統及雷射掃描系統維護合約 招標規範書  招標規範書目錄 項目 頁 次 招標規範書目錄················································································1 說明·························································································2 產品名稱及數量·········································································· 產品規格··················································································· 投標注意事項············································································· 規範書釋疑聯絡人······································································. 履約期限··················································································· 驗收························································································· 說明 本規範適用於國家奈米元件實驗室奈米能源與光電元件組之高密度電漿化學氣相沈積系統、感應耦合電漿化學氣相沉積系統與雷射掃描製程系統之10年度機台保養合約。 產品名稱及數量 高密度電漿化學氣相沈積系統感應耦合電漿化學氣相沉積系統與雷射掃描製程系統之10年度保養合約內容如下： 高密度電漿化學氣相沉積系統：包含三個化學氣相沈積系統、真空傳輸系統及感應耦合蝕刻系統之相關軟硬體功能。感應耦合電漿化學氣相沉積系統：包含化學氣相沉積（Inductive coupled plasma CVD 及流量脈衝(pulse)之相關軟體功能。 雷射製程系統：包含真空及非真腔體之355nm藍光雷射和532nm綠光雷射光束三維掃描系統之相關軟硬體功能。 產品規格 高密度電漿化學氣相沉積系統、感應耦合電漿化學氣相沉積系統和雷射製程系統355nm綠光雷射和532nm藍光雷射系統），得標廠商必須協助負責工程師（吳宗達#7黃文賢#7523及謝東穎#）進行系統之定期緊急保養與維修。 高密度電漿化學氣相沉積系統：年度合約以工作時數計算，預估 00小時。 當ND提出機台故障需進行維修時， 須於規定時間內至NDL進行機台維修。 - 平時上班日須於8 小時內到廠維修 - 若遇國定假日，則隔天上班到廠維修 若當年度的時數未使用完畢，則得以歸零，不得移轉至隔年的時數。 得標廠商需具有與本案標的類似（高密度電漿化學氣相沉積系統）之承做經驗，必須了解CVD（包含特殊氣體之流量脈衝功能）詳細的硬體架設與規格與操作經驗(如傳送腔、反應腔、真空壓力計、真空泵浦、及搭配之相關硬體與氣體管線零件…等)，以及機台操作軟體的程式修改能力。 得標廠商必須配合每月月初至NDL，並且配合負責工程師進行月份保養。 - 月份保養內容：協助拆裝系統的腔體進行清潔，檢修、測試並安裝歸位。 - 其餘非月份保養內容部分由負責工程師依設備實際需求，請得標廠商配合辦 理進行後續維護。 每次故障排除均需要附上報告書。感應耦合電漿化學氣相沉積系統： 年度合約以工作時數計算，預估 00小時。 當ND提出機台故障需進行維修時， 須於規定時間內至NDL進行機台維修。 - 平時上班日須於8 小時內到廠維修 - 若遇國定假日，則隔天上班到廠維修 若當年度的時數未使用完畢，則得以歸零，不得移轉至隔年的時數。 得標廠商需具有與本案標的類似（感應耦合電漿化學氣相沉積系統）之承做經驗，必須了解ICPCVD（包含特殊氣體之流量脈衝功能）