空气中粒状物金属检测法-ICPMS.doc

空氣中粒狀污染物金屬檢測方法－感應耦合電漿質譜本檢測方法係利用感應耦合電漿質譜儀（Inductively coupled plasma-mass spectrometry, ICP-MS）檢測中金屬Mass spectrometer），藉由質量分析器（Mass-analyzer）將各特定質荷比（Mass-to-charge ratio）之離子予以解析後，再以電子倍增器（Electron multiplier）加以檢測，來進行元素之定性及定量工作。 適用範圍 本方法適用於檢測大氣及周界中粒狀污染物之銻（Sb）、As）、鋇（Ba）、鈹（Be）、鎘（Cd）、鉻（Cr）、鈷（Co）、銅（Cu）、鉛（Pb）鎳（Ni）Se）、銀（Ag）、鉈（Tl）、V）及鋅（Zn）Isobaric elemental interferences）係因不同元素之同位素形成相同整數（Nominal）質荷比之單價或二價離子，而無法被ICP-MS質譜解析所造成。表二是本方法為避開上述干擾（除了98Mo與82Se仍會有98Ru與82Kr的干擾），所建議使用質量之同位素。若為了達到更高的感度而選擇表二其他天然豐度（Natural abundance）較大之同位素，可能會產生一種或更多之同重素干擾。此類干擾可使用數學方程式來校正，它包括量測干擾元素之另一同位素，再由分析訊號扣除所對應之訊號。在報告中必須記錄使用何種同位素比例之數學方程式，並且在使用前必須演算其正確性。 豐藏靈敏度（Abundance sensitivity）係表示一質量波峰之峰翼（Wing）對鄰近質量訊號之貢獻程度，其受到離子能量與質量分析器操作壓力影響。當待分析元素之同位素附近出現高量其他元素之同位素信號時，可能發生波峰重疊干擾。當所測定之樣品發生此類干擾時，可利用提高解析度、基質分離、使用其他分析同位素或選用他種儀器分析方法等方式來避免干擾發生。 同重多原子離子干擾（Isobaric polyatomic ion interferences，或稱同重複合離子干擾）係因多個原子所形成之離子與待分析物之同位素具有相同之整數質荷比，而無法由ICP-MS質譜儀解析時。例如：40Ar35Cl＋75As 及 98Mo16O＋ICP-MS 檢測之同重多原子離子干擾如表三所示。校正此干擾方法可由文獻中查得自然界存在之同位素豐度，或藉由調整標準溶液濃度，使儀器測得淨同位素信號之變異數小於 1 % 等方式，精確地求得干擾校正係數（註1）。由於儀器設計日新月異，此干擾亦可藉由質量分析器前之化學或碰撞反應室等相關設計消除。 物理性干擾之發生不但與樣品霧化和傳輸過程有關，而且亦與離子傳送效率有關。大量樣品基質存在會導致樣品溶液之表面張力或黏度改變，進而造成樣品溶液霧化和傳輸效率改變，並使分析信號出現抑制或增加。另外，分析信號強度亦會因測定過程中，樣品溶液中大量溶解性固體沉積在霧化器噴嘴和取樣錐（Sampling cone）孔洞而降低，因此，樣品溶液中總溶解性固體含量必須小於 0.2%（2000 mg/L），如此才能有效避免溶解性固體之影響。由於上述物理性干擾發生時，內標準品及待分析元素的變化程度相同，因此，可以利用添加內標準品方式來校正物理性干擾。但當樣品中存在之基質濃度極高，且造成內標準品信號發生顯著抑制現象時（少於檢量標準信號的 30%），樣品溶液可經適當稀釋後，再重新檢測以避免上述之物理性干擾。 記憶干擾或跨次（Carry-over）干擾問題常發生於連續分析濃度差異甚大之樣品或標準品時，樣品中待分析元素沉積並滯留在真空介面、噴霧腔和霧化器上所致，可藉由延長樣品間洗滌時間來避免此類干擾效應之發生。 標準液配製和樣品前處理時必須使用高純度溶液。由於 ICP-MS 偵測極限極低，因此建議使用二次蒸餾（Redistilled）的酸來降低分析空白值。上機測定時，樣品溶液中硝酸濃度必須控制在少於 2 %，以降低真空介面之損壞程度，並且減少各式同重多原子離子干擾。此外，當樣品溶液中含有鹽酸和硫酸時，多原子離子之干擾問題亦會較為嚴重。 設備與材料 採樣：採樣器請個別參照NIEA A102、NIEA A208、NIEA A205。 微波消化 微波消化系統：必須具有程式化功率設定之功能，且可提供至00 W的輸出功率。PFA Teflon?或同級材質）之消化容器：需具有壓力監測及洩壓閥之裝置，消化瓶至少可承受120 psi的壓力。當壓力超過120 psi(容積60~120 mL)時，壓力瓶可控制壓力之減除。旋轉盤：以確保樣品在消化裝置內接受微波之均勻性。玻璃器皿：A級硼矽玻璃容積50~100 mL。聚乙烯或聚丙烯瓶附防漏蓋用儲存樣品Teflon?瓶用於儲存多元素標準溶液（）。離心管：聚(Polysulfone, PSF)材質管，附聚丙烯旋