刻蚀和PECVD培训.pdf

工艺部：刘志敏 全球能源 ·中国智慧 等离子体刻蚀定义 • 等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反应，使反应气体激活 成活性粒子，如原子或游离基，这些活性粒子扩散到需刻 蚀的部位，在那里与被刻蚀材料进行反应，形成挥发性生 成物而被去除。它的优势在于快速的刻蚀速率同时可获得 良好的物理形貌。（这是各向同性反应） • 这种腐蚀方法也叫做干法腐蚀。 2 全球能源 ·中国智慧 2种天线耦合方式  （a ）静电耦合主要利用静电场 成份来加速电子，又称电容耦合， 产生电容耦合等离子体；  （b）感应耦合利用感应电场成 份，无外加磁场时产生感应耦合等 离子体；有外加磁场时产生螺旋等 离子体； 七星华创 四十八所 捷佳创 3 全球能源 ·中国智慧 干法刻蚀气路图 MFC1 CF4 阀 CF4 MFC2 射频功率源 O2 O2 阀 N2 N2阀 充气阀 反应室 预抽阀 稀释阀 尾气 主抽阀 进气均流板 电子执行 器 过滤网 主阀