利用多馈源激励改善混响室的场均匀性.pdfVIP

第23卷第11期 强 激 光 与 粒 子 束 V01．23，No．11 2011年11月 HIGHPOWERLASERANDPARTICLEBEAMS NOV．，2011 文章编号： 1001—4322(2011)11—3019—05 利用多馈源激励改善混响室的场均匀性’ 李．爽， 王建国， 谢海燕， 陆希成 (西北核技术研究所，西安710024) 摘要： 研究了多馈源激励对混响室内场分布的影响。根据理想封闭矩形腔体内电磁场表达式，分析了 混响室内场分布的影响因素；通过对比电场的最大值、分布标准差及各向同性等统计特征，重点研究了多馈源 激励对腔体内场分布的影响。研究结果表明：采用多馈源激励可以有效地提高场均匀性，有利于构造均匀的电 磁场环境。同时也证明了利用该方法在混响室中研究高功率微波效应的可行性。 关键词：混响室； 高功率微波；源搅拌； 场均匀性 中图分类号： 0441．4 文献标志码： A doi：lO．3788／HPLP3019 通常对整系统的HPM效应研究，都是采用HPM源对大量的被测设备进行辐照，然后统计出被测设备的 干扰和损伤等效应的阈值。这种直观有效的方法通常可以利用外场或者微波暗室来进行，相关研究也都取得 了丰富的成果[1≈]。但是为了得到统计规律，这种试验方法需要的统计样本较多，试验造价较为昂贵，实施也比 较复杂。同时，整系统的效应规律与其内部分系统的效应特征也密切相关，分系统所处的电磁环境更为复杂。 对于复杂腔体，外部HPM可以通过多种耦合途径(天线、腔体上的孔缝等)进入腔体内部，与腔体内的器件相 互作用，从而严重影响整系统的工作效能[4巧]。而传统试验场地难以模拟这种复杂的电磁环境，所以给分系统 的效应测试带来了很大困难。混响室(RC)一般是在一个屏蔽腔体内，用某种搅拌方式产生统计意义上的各向 同性均匀场。它能用较小的输入功率在较大测试空间内获得高场强。作为一种新型电磁效应试验设备，混响 室可以很好地模拟复杂电磁环境，对研究复杂腔体内部分系统设备的电磁效应具有重要意义[6]。然而，目前的 混响室研究主要是基于连续波激励，很少有涉及脉冲波激励下的混响室特性研究。本文将从理论分析和数值 模拟两个方面，研究HPM激励下，多馈源激励对腔内电磁场分布的影响。 1 理论分析 1．1理想腔体内的模式理论 混响室本身是一个电大尺寸的谐振腔，可以通过谐振腔理论来分析混响室的基本工作原理。由于3维有 源矩形谐振腔内，电磁场分布形式的求解过程比较复杂，这里以简单的2维模型为例进行说明[7]。 位于xos平面上的2维有源理想矩形腔体内的电场分布函数E：可以表示为 r11 F一!j坐!!!亏j÷!i璺!竺至兰!!垒!!!呈!竺至兰!垒!!!旦!竺!羔!!鱼!!!翌!翌至竺』垒! 。 ”7 ab m厶=l鲁 k2一(ran／a)2一(咒7c／6)2 电常数。2维矩形腔体中的谐振频率厶为 ；。《延汛弋 (2) 式中：绑，竹分别表示x，Y方向的半波数；n，b分别为矩形腔体的长和宽；c为真空光速。 从式(1)可以看出，在空间介质不变的情况下，腔体内的场分布取决于以下两个因素：其一腔体的尺寸，体 现在参数口，b上；其二激励源的性质，主要包括位置(体现在参数z。，Y。上)、幅值、频率等。依据因素一，传统 混响室通过机械搅拌器改变腔体内的边界条件，实现场的均匀性。但机械臂运动的特征时间是ms量级，而目 前的HPM源所产生的脉冲波的脉宽较短，远小于机械运动的时间量级[810|。因此，机械搅拌的方法不适于用 HPM效应分析混响室。源搅拌混响室是根据因素二来工作的。通过对激励源的扰动可以影响有效模式组合 *收稿日期：2011