简易曝光显影蚀刻试验试验报告-南台科技大学.PDF

簡易曝光、顯影、蝕刻實驗 實驗報告 課程名稱 微機電系統: (MEMS) 校別:南臺科技大學 系別:機械工程系微奈米技術組 組員: 蔡淳樸4A114049 黃亮景 4A114029 張均宇 4A114040 黃子賢 4A10H005 洪瑋祥4A114033 陳俞安 4A115918 沈哲瑜4A114903 王俊傑4A114909 陳品全 4A114910 實驗步驟 1.首先先戴上花朵牌 H511型無粉乳 2.拿到鍍好銅的基板 (蒸鍍或濺 膠手套。 鍍) 3.將光罩與基板至於簡易曝光機上， 曝光 120秒 4.取下光罩後，至於顯影液中攪動(作 用面盡量與顯影液進行最大接觸 ) 5.以清水清洗半成品，並吹乾(去 除水分 ) 6.將半成品至於60度的蝕刻液中 進行蝕刻 7. 以清水清洗半成品，並吹乾(去 除水分 ) 8.利用丙酮去光阻 9.以清水清洗半成品，並吹乾(去 除水分 ) 10.半成品、成品與光罩圖 二、結果與討論 我們這組較成功的原因在於我們 一開始的顯影步驟做的比較徹底及均 勻，將基板用金屬夾夾著，並以穩定 速度來回撥動使正光 阻和顯影液能達 到最大的接觸而被去除 ，所以能讓曝 光圖案較完整的顯現出來，沒有邊線 或不完全處 ，因此得到的圖案較為精 緻。 蝕刻部分 ，同樣花費較久時間 由於先前較成功的顯影讓 我們能夠在 蝕刻部分獲得較佳的品質。 綜合以上結果，我們這組發現使 用相同的材料但是每一組所得的結果 卻不太一樣，主要原因為顯影夠不夠 徹底 以及蝕刻是否吃得夠乾淨。 Etching process life-off process compare 三、心得 黃亮景 沈哲渝 走在K棟走廊，看到學長姐們進進 在經歷了半個學期的微機電課程 出出實驗室，真的很羨慕，所以當老師 後終於有機會實際去參與實驗的內 說能讓我們做實驗時讓我超興奮的，整 容，從曝光、顯影、蝕刻，到最後的 個就超期待實驗那天的到來。 成果，每個步驟都能應用上課所學， 進入滾印中心時，學長就先幫我們 利用簡單的光罩做出成品，把上課講 複習一般法與離舉法的差別在於一開始 過考試也考過的製作過程完整的套 是否有鍍銅。一開始將 Q版照片當光罩 用上，第一次進去實驗室的感覺也非 放入曝光機內 120秒，取出後放置在顯 常的新鮮，周遭都是不同以往在機械 影液裡一直攪拌使圖形跑出來（這部分 領域所看到的機器設備，而使用的製 是俞安做的，雖然圖案有成功的顯影出 作過程做出真正應用這堂課所學做 來，但他已經滿頭大汗，後面才換我接 出的成品，實際操作跟書本上的差異 手），過來要在放入蝕刻液內一樣持續攪 讓我們有著不同的感受，雖然沒有