透射电镜与基本成像操作及像衬度 .ppt

透射电镜基本成像操作及像衬度 目录 2 成像操作 像衬度 成像操作 5 成像操作 暗场成像 中心暗场成像 2 3 明场成像 1 1.明场成像和暗场成像 6 利用投射到荧光屏上的选区衍射谱可以进行透射电镜的两种最基本的成像操作。 晶体样品或非晶体样品，其选区衍射谱上必存在一个由直射电子束形成的中心亮斑以及一些散射电子。 我们可以选直射电子也可以选部分散射电子来成像。这种成像电子的选择是通过在物镜背焦面上插入物镜光栏来实现的。 选用直射电子（透射束）形成的像称为明场像，选用散射电子（衍射束）形成的像称为暗场像。 1.明场成像和暗场成像 暗场成像有两种方法：偏心暗场像与中心暗场像。 7 1.明场成像和暗场成像 由于成像电子束偏离了透射电镜的光轴而造成较大的像差并在成像时难以聚焦，成像质量较差。在透射电镜中，为了获得高质量的暗场像，人们总是采取“中心暗场成像”，即将入射电子束反向倾斜一个相应的散射角度，而使散射电子沿光轴传播。 对晶体样品而言，如明场成像时 晶面组恰与入射方向交成精确的布拉格角θ，而其余晶面组均与衍射条件存在较大偏差，此时除透射束外只有一个强的衍射束即 衍射束，即构成所谓的“双光束条件”。在此条件下，通过束倾斜，使入射束沿原先的 衍射束方向入射，即将中心斑点移至 衍射斑点位置。此时， 晶面组将偏离布拉格条件，而 晶面组与入射束交成准确的布拉格角，其衍射束与光轴平行，正好通过光栏孔，而透射束和其他衍射束均被挡掉，如图9-17(c)。 2.像衬度 8 像衬度是图像上不同区域间明暗程度的差别。正是由于图像上不同区域间存在明暗程度的差别即衬度的存在，才使得我们能观察到的各种具体的图像。 透射电镜的像衬度与所研究的样品材料自身的组织结构、所采用的成像操作方式和成像条件有关。 透射电镜的像衬度来源于样品对入射电子束的散射。当电子波穿越样品时，其振幅和相位都将发生变化，这些变化都可以产生像衬度。 图1 透射电镜像衬度分类 2.像衬度 1.相位衬度 当透射束和至少一束衍射束同时通过物镜光栏参与成像时，由于透射束与衍射束的相互干涉，形成一种反映晶体点阵周期性的条纹像和结构像，这种像衬的形成是透射束和衍射束相位相干的结果，故称相位衬度。 2. 振幅衬度 振幅衬度是由于入射电子通过试样时，与试样内原子发生相互作用而发生振幅的变化，引起反差。振幅衬度主要有质厚衬度和衍射衬度两种。 图1 透射电镜像衬度分类 质厚衬度 质厚衬度 定义：非晶体样品透射电子显微图像衬度是由于样品不同微区间存在原子序数或厚度的差异而形成的，即质量厚度衬度，简称质厚衬度。 原理：质厚衬度是建立在非晶体样品中原子对入射电子的散射和透射电子显微镜小孔径角成像基础上的成像原理。对于非晶体样品来说，入射电子透过样品时碰到的原子数目越多（或样品越厚），样品的原子核库仑力场越强（或样品原子序数越大或密度越大），被散射到物镜光阑外的电子就越多，而通过物镜光阑参与成像的电子强度也就越低。 这是因为电子穿过样品时，通过与原子核的弹性作用被散射而偏离光轴，弹性散射截面是原子序数的函数。此外，随样品厚度增加，将发生更多的弹性散射。所以，样品上原子序数较高或样品较厚的区域（较黑）比原子序数较低或样品较薄的区域（较亮）将使更多的电子散射而偏离光轴，如图9-18所示。 质厚衬度 透射电镜总是采用小孔径角成像，在图9-18所示的明场成像即在垂直入射并使光栏孔置于光轴位置的成像条件下，偏离光轴一定程度的散射电子将被物镜光栏挡掉，使落在像平面上相应区域的电子数目减少（强度较小），原子序数较高或样品较厚的区域在荧光屏上显示为较暗区域。 反之，质量或厚度较低的区域对应于荧光屏上较亮的区域。所以，图像上的明暗程度的变化反映了样品上相应区域的原子序数（质量）或样品厚度的变化。 此外，也可以利用任何散射电子来形成显示质厚衬度的暗场像。显然，在暗场成像条件下，样品上较厚或原子序数较高的区域在荧光屏上显示为较亮区域。 质厚衬度受到透射电子显微镜物镜光栏孔径和加速电压的影响。 衍射衬度 由X射线衍射原理我们得出布拉格方程的一般形式为 因为 所以 这说明，对于给定的晶体样品，只有当入射波长足够短时，才能产生衍射。而对于电镜的照明光源——高能电子束来说，比X射线更容易满足。通常的透射电镜的加速电压为100~200kV，即电子波的波长为10-2~10-3nm数量级，而常见晶体的晶面间距为100~10-1nm数量级，于是 电子衍射原理 这表明，电子衍射的衍射角总是非常小，这是它