试验七磁控溅射法制膜.pdfVIP

实验十三、 薄膜的激光脉冲法制备实验 前言 上世纪60年代第一台红宝石激光器的问世，开启了激光与物质相互作用的全新领域。 科学家们发现当用激光照射固体材料时，有电子、离子和中性原子从固体表面逃逸出来，这 些跑出来的粒子在材料附近形成一个发光的等离子区，其温度估计在几千到一万度之间，随 后有人想到，若能使这些粒子在衬底上凝结，就可得到薄膜，这就是最初激光镀膜的概念。 最初有人尝试用激光制备光学薄膜，这种方法经分析类似于电子束打靶蒸发镀膜，没有体现 出其优势来，因此这项技术一直不被人们重视。直到1987年，美国Bell 实验室首次成功地 利用短波长脉冲准分子激光制备了高质量的钇钡铜氧超导薄膜，这一创举使得脉冲激光沉积 (PulsedLaser Deposition，简称PLD)技术受到国际上广大科研工作者的高度重视，从此PLD 成为一种重要的制膜技术。由于脉冲激光沉积技术具有许多优点，它被广泛用于铁电、半导 体、金刚石(类金刚石)等多种功能薄膜以及生物陶瓷薄膜的制备上，可谓前途光明。 一、实验目的 1．掌握脉冲激光沉积法制膜的基本原理 2．了解PLD 系统的操作过程及使用范围 二、实验原理 脉冲沉积系统样式比较多，但是结构差不多，一般由准分子脉冲激光器、光路系统(光 阑扫描器、会聚透镜、激光窗等