光学元件精密加工中的磁流变抛光技术工艺参数-强激光与粒子束.PDF

第 卷第 期 强 激 光 与 粒 子 束 ， ２５ ９ Ｖｏｌ．２５ Ｎｏ．９ 　 　 年 月 ， ２０１３ ９ ＨＩＧＨ ＰＯＷＥＲＬＡＳＥＲＡＮＤＰＡＲＴＩＣＬＥＢＥＡＭＳ Ｓｅ． ２０１３ 　 ｐ 　 文章编号： （ ） １００１４３２２２０１３０９２２８１０６ 　 光学元件精密加工中的磁流变抛光技术工艺参数 ， １２ １ ２ １ １ １ １ 秦北志 ， 杨李茗 ， 朱日宏 ， 侯 晶 ， 袁志刚 ， 郑 楠 ， 唐才学 　 　 　 　 　 　 　 　 （ 成都精密光学工程研究中心，成都 ； 南京理工大学 电子工程与光电信息技术学院，南京 ） １． ６１００４１ ２． ２１００９４ 　 摘 要： 为了充分掌握磁流变抛光中磁场强度、浸入深度、抛光轮转速、磁流变液水分含量等工艺参数对 　　 　 　 抛光结果的影响规律，以期提高元件的面形精度和表面的质量，在研究了磁流变抛光材料的去除数学模型的基 础上，结合实验室的ＰＫＣ１００Ｐ１型抛光设备，对上述的关键工艺参数分别进行了研究，设置了一系列的实验参 数，进行了详细的实验探索，分析了单因素条件下材料的去除量以及元件表面质量同关键工艺参数的内在联 系，得出了相应影响关系曲线。从关系曲线表明：工艺参数对抛光斑的去除效率以及被加工元件表面质量存在 着明显的影响规律，掌握这些影响关系就能用于分析和优化磁流变加工的结果，为高精度光学表面的加工提供 可靠的保障，同时实验的结果也很好地验证了磁流变抛光材料去除理论的正确性。 关键词： 精密加工； 磁流变抛光； 去除函数； 磁流变液； Ｐｒｅｓｔｏｎ方程 　　 　 　 　 　 　 中图分类号： 文献标志码： ： ／ ＴＨ１６１ Ａ 犱狅犻１０．３７８８ＨＰＬＰ２２８１ 　　 　 　　　　 　 　　 随着现代科学技术的迅猛发展，在激光聚变、航天航空、太空探测等领域对高性能的光学元件的需求量越 　　 来越大，并且对元件本身的面型精、粗糙度等指标要求越发严格。传统的加工方法已经无法满足现行的加工要 求。磁流变抛光是 世纪 年代初美国 大学光学中心的 ， ， ２０ ９０ Ｒｏｃｈｅｓｔｅｒ Ｉ．Ｖ．Ｐｒｏｋｈｏｒｏｖ Ｗ．Ｉ．ＫｏｒｄｏｎｓｋｉＤ． ［ ］