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第三章：真空科学技术基础 Chapter III: Fundamental Vacuum Science and Technology 真空 （Vacuum） 真空 （Vacuum） • “真空”这一术语译自拉丁文Vacuo，其 意义是虚无。 • 真空应理解为气体较稀薄的空间。在指 定的空间内，低于一个大气压力的气体 状态统称为真空。 • 真空状态下气体稀薄程度称为真空度， 通常用压力值表示。 真空技术的应用领域 电子技术、航空航天技术、加速器、表面物 理、微电子、材料科学、医学、化工、冶金、 日常生活等各个领域。 （电子管、电视管、加速器、电子显微镜、 镀膜、杜瓦绝热） 需要真空系统的微加工设备：电子束光刻设 备，PECVD，热CVD，镀膜设备，RIE， ICP，热处理设备，离子注入 真空量度单位 – 1标准大气压=760mmHg=760Torr Vacuum – 1标准大气压=1.013x105 Pa 760 mm Hg ATM – 1Torr=133.3Pa 压力范围和真空泵 真空度可分为： 5 – 初真空： 10 Pa~10 Pa 工业应用（包装） -2 – 中真空： 10 Pa~10 Pa CVD沉积技术 -2 -6 – 高真空： 10 Pa~10 Pa 溅射沉积技术 -6 -10 – 超高真空：10 Pa~10 Pa 原子表面和界面分析 – 极高真空： 10-10Pa 10-9 Pa 月球大气压强 -15 10 Pa 星际空间压强 真空的特点 在真空中，气体分子密度低，在某些情况下，真 空可以近似地看作没有气体 “污染”的空间。真 空中，气体分子或带电粒子的平均自由程为： kT  2 2 p 其中k为玻耳兹曼常数， T为气体温度， 为分子直径，  p为压强。 • 例如室温下氮分子的平均自由程在超高真空 10-7 Pa 时将长于50 km。 • 电子和离子在气体中的平均自由程分别是气体 分子平均自由程的5.66 和 1.41 倍。因此除非 在宇宙空间，几乎所有地面上体积有限的超高 真空系统中，气体分子之间或气体分子与带电 粒子之间的碰撞都可以近似忽略。 • 由于上述原因，真空中分子之间碰撞频率很低，分 子与固体表面碰撞的频率极低。单位面积上气体分 子碰撞频率ν与压强p 的关系为： 3.5  1022  p