偏压、靶电流对多弧离子镀制备TiNTiAlN复合膜组织形貌及性能的影响.pdfVIP

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2017-10-10 发布于山东
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偏压、靶电流对多弧离子镀制备TiNTiAlN复合膜组织形貌及性能的影响.pdf

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偏压、靶电流对多弧离子镀制备TiNTiAlN复合膜组织形貌及性能的影响

TiAlN TiN TiAlN M2 TiN TiN TiAlN TiN/TiAlN TiN/TiAlN -360V TiTi Al/Ti Ti/ Ti70A2600HV/ 110N/-240V -300V Ti 70A TiN/TiAlN -300V TiN/TiAlN Ti TiN/TiAlN I Influence of Target Current and Bias Voltage on TiN/TiAlN Composite Film by the Multi-Arc Techniques Abstract Compared to the TiN film,TiAlN film has wider application fields with higher hardness,wear resistance.high temperature oxidation resistance and so on. The existing researches have reported that the structure morphologies and properties of film are largely influenced by the changes of processing parameters.In this paper, a layer of TiN film was firstly deposited on the M2 high speed steel.Then TiAlN film was deposited on the TiN film,and the films of TiN and TiAlN were deposited by three times alternatively.At last,TiN/TiAlN composite film were prepared and the properties of the film were studied. By changing the target currents and bias voltages,the paper researched the influence role of target currents bias voltages within a certain range on the surface composition and morphology,micro-hardness,adhesive force,thermal shock property,and the friction and wear performance of film.The results showed that The film properties were changed by adjusting process parameters.By increasing the pulse bias voltag