用旋转粘度计测试液晶粘滞系数-Read.pptVIP

它适用于更大范围的预倾角测量。 当?较大时偏差已很大，把?2展开到三阶，得： 当液晶盒的厚度较薄时，对称点与非对称点的峰或谷的差别不明显，造成测试结果偏离真实值较远，所以应用旋转晶体法测试预倾角时，一般要求液晶盒厚大于20um。 为测试薄盒预倾角，可以对旋转晶体法进行改进：加入一恒定位相差，有助于判定对称点的准确位置，可以提高测试精度。 实验方法 晶体旋转法测试预倾角的基本装置如前图所示。入射偏振器和出射偏振器的偏振方向互相垂直，液晶盒的摩擦方向与偏振器的偏光方向成450，液晶盒可以绕与摩擦方向垂直而且通过液晶层中心的轴旋转，如果液晶盒厚较薄，在光路中加入补偿器。由步进电机带动液晶盒转动。单色光经过液晶盒后产生双折射，干涉光强度信号由光电倍增管接收，经信号放大，A/D变换后由计算机进行数据处理。计算机画出干涉光强度随入射角度变化的曲线，通过计算机找出曲线上的极值角度am或其两侧的对称峰角度a-i,a+i·，选择计算模式计算出预倾角。 力矩 矩 9.9 （方位） 薄膜厚度定义有三种：接近于直观形式的形状膜厚dT；表现薄膜质量的量的概念的质量膜厚dM；实际上很有用的薄膜物性等价厚度的物性膜厚dP。多数情况是：dT≥dM≥dP。为了要知道膜厚，人们发展了各种各样的膜厚测试技术。 9.7　薄膜厚度的测定 广泛使用的方法有两种：一种是用针扫描薄膜表面并将针的上下运动放大，以机械方式来确定表面形状，这种方法称为触针法：首先将基片与薄膜之间做出沟槽，形成台阶形状，这种触针法膜厚测试仪就是台阶仪。另一种是利用单色光的多次反射干涉而产生鲜明的干涉条纹，根据条纹的偏移来确定薄膜的厚度，这种方法称为多光束干涉测量法(MBI法)，它是所有膜厚测量方法中最普遍采用的方法之一。测量形状膜厚的光学方法还有等色级干涉法(FECO法)和双光束干涉法，另外还有电子显微镜法。 形状膜厚的测量 利用重力测量质量的方法和测量与原子数对应的量来测量质量的方法：可用化学天平法、微量天平法、扭力天平法和石英晶体振荡法。天平法测量膜厚的缺点是难以实现自动化，石英晶体振荡法可适用于自动化，而且在真空设备内部很容易安装，其原理是：在石英振荡器上附着薄膜，使石英的表观质量增加，从而改变了石英的固有振荡周期，将石英振荡器组装到振荡回路中使薄膜质量的变化作为频率的变化读出。测量原子数量的方法有比色法、荧光X射线法、离子检测法和辐射分析法等。 质量膜厚的测量 物质的电阻、光的吸收等多种物理性质与物质的量有关系，凡是随厚度而变化的物理性质，按理说都可以用于膜厚测量，但考虑灵敏度高低，测量是否简便等原因，膜厚测量中最广泛利用的是电和光的性质。物性膜厚的电学测量方法有电阻法、总电压法、涡流法和电容法；光学测量方法有干涉色法、偏振光解析法和光吸收法。 物性膜厚的测量： 双光束干涉原理 平行光 9.7.1 液晶盒间隙的测定 I = I1+I2+2(I1I2)1/2 sin(2nd/?) 1/?m+1 - 1/?m =2nd 干涉法测量cell gap 　　当膜厚远小于光的波长时，有效的测量方法是椭偏测量法。椭圆偏振法广泛应用于测量光学薄膜的折射率、厚度等。它的灵敏度高、精度好。对样品没有什么特殊要求，是一种简单而有效的测量方法。在液晶器件物理实验测试中，可以用椭圆偏振法测试玻璃基板上透明电极ITO膜的厚度(?500?)和取向层PI膜的厚度(?500?)。 9.7.2 取向膜厚度的测定 椭偏仪测膜厚和折射率 入射光照射样品时，通常反射光的振幅减小并且发生相移。如果在表面上存在一层薄膜，则还会出现多次反射。各反射光将进一步相互干涉，产生强度极大值和极小值。这种干涉效应与它们的相对振幅，各面之间的光程差和相移有关。 薄膜两侧的介质是半无限大的，折射率分别为no和n2。通常no 为环境(空气等)的折射率，介质n2为衬底。薄膜折射率为n1，它与两侧介质界面平行并且都是理想光滑平面，两界面之间的距离就是膜厚d。 如果入射光是线偏振的，可以将它分解为平行于入射面的P分量和垂直于入射面的S分量。反射以后，两个分量则经受了不同的相移，而且它们的反射系数也是不同的。这样，反射光不再是线偏振的，而呈椭圆偏振。 椭偏仪的基本原理 P分量和S分量，经过反射后，两分量可能出现两种情况：第一，无相移，但强度相对变化，反射光仍是线偏振光，但振动面发生了转动，转角为? ；第二，出现了相移（位相差） Δ＝Δp－Δs ，?和Δ就是椭圆偏振法测量中的两个椭偏角。可以采用调整检偏器的方位角至使通过检偏器的偏振光达到消光状态来确定反射光偏振转动的变化；另外反射光S和Ｐ分量的相移Δ ，可以附加光学元件引入一个相移来补偿Δ ，使之重新变成线偏振光从而确定Δ 。 由实