解决奈米级环境杂讯误差之新颖光学干涉技术摘要-aoiea自动光学.pdfVIP

解決奈米級環境雜訊誤差之新穎光學干涉技術 張堯盛 張峻維 郭鴻熹 亞東技術學院電機系 yschang@ee.oit.edu.tw 摘要 本 研究 目 的 係 將 雙 折 射 之近 共 光 軸 特 性 與 正 交 外 差 的 訊 號 處 理 技 術 建 構 於 干 涉 耦 合 裝 置 ， 設 計 一 套 近 共 光 軸 高 SN 比 、 高 解 析度之真正奈米級之位移量測干涉系統。 研 究 中 將 以 穩 頻 氦 氖 雷 射 為 光 源 ， 通 過 偏 極 板 、 四 分 之 一 波 片 和 雙 折 射 之 偏 極 平 行 分 光 效 應 後 ， 形 成 相 互 平 行 之 兩 束 光 徑 ， 即 為 水 平 偏 極 光 與 垂 直 偏 極 光 ， 此 相 互 平 行 兩 束 光 徑 ， 一 為 參 考 光 通 過 固 定 反 射 鏡 M1 後 ， 另 一 為 感 測 光 通 過 壓 電 材 料 控 制 之 奈 米 位 移 反 射 鏡 M2 後，此 兩 反 射 光 再 經 雙 折 射 之 偏 極 耦 合 效 應 後，通 過 分 光 鏡 BS 反 射 後 ， 再 經 四 分 之 一 波 片 形 成 右 旋 與 左 旋 圓 偏 極 光 束 。 將 此 兩 光 束 經 分 光 及 與 偏 極 板 後 形 成 兩 個 相 位 正 交 的 信 號 ， 再 經 正 交 外 差 式 的 訊 號 處 理 ， 載 波 過 濾 低 頻 雜 訊 ， 可 得 高 訊 雜 比 的 線 性 相 位 差 訊 號 ， 再 經 相 位 解 調 器 ， 可 得 高 敏 感 度 的 折 射 率 或 真正奈 米 位 移 之 相 位 變 化 ， 並 轉 換 成 電 壓 大 小 。 新穎的雙折射近共光軸干涉系統，其主要貢獻為此干涉系統將 P 偏極光徑及 S 偏極光徑耦合共光 軸，使環境擾動雜訊互相抵消，即共模雜訊互斥，造成零雜訊相位差。故此新穎的近共光軸干涉系統， 將可取代傳統非共光程之干涉儀，解決環境雜訊溫差等干擾，形成近零雜訊相位差。 關鍵字：近 共 光 軸 、干 涉 、位移量測 、環境雜訊 一 前言 高科技產業中不乏需要精密加工、精密安裝之光學、機械、電機組件（簡稱「光機電」），其對製 造、加工、組裝之精密程度需求會與日俱增，自不待言。談到精密製造加工及組裝，其中每一過程每 一環節皆需要精密量測予以配合，以符合 ISO-9002 及 ISO-9003 之品質保證；在組裝成高度精密之控 制系統之後，若是徒有高精密之控制元件，而又獨缺可以與之配合之高精密量測，則仍屬枉然，因此 高精密度之量測校驗（Calibration ），不僅對品質檢測極為重要，所以產業界一直再尋找真正奈米級之 量測系統。 目前國內代理 HP 公司雷射雙頻齊曼 zeeman 干涉儀之基本功能係用來量測位移，源自於所謂之基 本型「位移干涉儀」（Displacement interferometer ），其他如溫度（Temperature ）、應變（Strain ）、速 度（Velocity ）、振動（Vibration ）、準直度（Straightness ）、方正 度（Squareness ）、平坦度（Flatness ）、 平行度（Parallelism ）等功能之量測、亦皆係由此基本型量測位移之「麥克生干涉儀」（Michelson interferometer ）衍生而來。 HP 公司雷射雙頻 zeeman 干涉儀售價非常昂貴，圖一之線性干涉組中,干涉儀係為靜止不動反射鏡 則有移動經由齊季曼雷射激發出兩種頻率 f1 及 f2 之雷射光，f2 為參考頻率在射入干涉儀及參考反射 鏡後， 經過四次反射,再離開干涉儀，而 f1 為量測頻率，其偏極化平面與 f2 者垂直，在穿透干涉儀後， 對移動中之反射鏡作兩次反射，由於反射鏡有位移速度，因此自反射鏡之頻率會產生都普勒頻率移差 (Doppler shift)Δf ，反射鏡位移速度愈大，Δf 亦隨之增大。因此若 Δf 予以計數(即積分之意) ，即可將 位移計算出。此線性干涉儀之位移解析度可達 10 nm (0.01 um) (standard) ， 1 nm (0.001 um) (extended) 。 目前國內