第四章 化学气相沉积2.pptVIP

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  • 2017-10-14 发布于湖北
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第四章 化学气相沉积2

1 简介;化学气相沉积乃是通过化学反应的方式,利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源,在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。; ;化学气相沉积的反应过程(P95);;CVD化学反应原理的微观和宏观解释;;热能传递主要有传导、对流、辐射三种方式;单位面积的能量辐射=Er=hr(Ts1- Ts2) ; 在CVD过程中,只有发生气相-固相交界面的反应才能在基体上形成致密的固态薄膜。 CVD中的化学反应受到气相与固相表面的接触催化作用,产物的析出过程也是由气相到固相的结晶生长过程。在CVD反应中基体和气相间要保持一定的温度差和浓度差,由二者决定的过饱和度产生晶体生长的驱动力。 ; 化学气相沉积热力学分析 用物理化学知识对沉积过程进行热力学分析,找出反应向沉积涂层方向进行的条件以及平衡时能达到的最大产量或转化率。 如反应: A(g) C(g) + D(s) , 要想沉积D,上述反应的lgKp应是较大的正值,但要想D溶解进入气相,即在原料区,则lgKp应是较大的负值 lgKp=- △G0/2.303RT =- △H0/2.303RT+ △S0/2.303R

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