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光散射对Z2扫描的影响-SFSUPhysicsamp;Astronomy.PDF
第 31 卷 第 1 期 中 国 激 光 Vol. 31 , No. 1
2004 年 1 月 CHINESE JOURNAL OF LASERS January , 2004
( )
文章编号 : 2004
光散射对 Z扫描的影响
冯伟刚 , 许坤远 , 佘卫龙 , 王晓生
( 中山大学光电材料与技术国家重点实验室 , 广东 广州 510275)
摘要 以光折变晶体 KNSBN 为研究对象 ,从理论和实验上仔细研究了标准的 Z 轴扫描技术 ,发现材料导致的光散
射对测量结果有影响。因此把 Z扫描技术应用于光散射比较强的材料时 ,在进行 Z扫描测量时需排除光散射的影
响。
关键词 光电子学 ;Z扫描 ;光折变效应 ;光散射
中图分类号 O 436. 2 ;O 437. 5 文献标识码 A
Influence of Scattering on Zscan
FENG Weigang , XU Kunyuan , SHE Weilong , WANG Xiaosheng
( The State Key Laboratory of Optoelectronic Materials and Technologies ,
)
Zhongshan University , Guangzhou , Guangdong 510275 , China
Abstract In this paper , the normal Zscan technique is used to study photorefractive crystal ( KNSBN) on theory and
experiment. From the result it is found that scattering has an influence on Zscan. In this paper , the influence has been studied in
detail.
Key words optoelectronics ; Zscan ; photorefractive ; scattering
1 引 言 品的非线性。按以往的理论分析所测结果应一致[ 7] ,
但实验结果并非如此。d 的大小对测量结果有不可
在光电子和光子学领域 ,许多器件都应用了材 忽略的影响。经过进一步分析发现 , 问题来源于材
料的光学非线性效应 ,为此人们不断完善着材料的
( )
料 样品 对光的散射。
非线性测量技术。在 1989 年 SheikBahae 等[1 ] 提出
( )
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