椭圆偏光术於ITO透明导电膜量测应用（上）-光电科技工业协进会.PDFVIP

文 ／ 盧宥任、謝余松、張益三 (金屬工業研究發展中心) 技術瞭望 橢圓偏光術於ITO透明導電 膜量測應用（上） 透明導電膜指的是可見光範圍透明 ，且導電性良好之薄膜 。一般定義為可見光範圍內 （380 ～ 760nm ）具80%以上透光率 ，並且電阻率低於10-3( Ω-cm) ，則可稱為透明導電薄膜 。透明導電膜 （TCFs ）應用範圍相當廣泛 ，如液晶顯示器 （LCD ）、電漿顯示器 （PDP ）、太陽電池透明電極 以及觸控面板等 。橢圓偏光術是一種薄膜特性量測技術 ，利用該方法可獲得待測樣品薄膜厚度 、 折射率 、消光係數 、表面粗糙度等關鍵參數 ，本文希望透過橢圓偏光術建立透明導電膜ITO之光學 特性分析機制 。 一、前言 進行製程與其光學特性進行探討 。 以期能夠改善其製程 、降低生產成 　　在19 80年左右 ，日本首先發 本 、製備出高品質透明導電薄膜 。 　　隨著科技不斷的發展 ，各種科 展出以真空蒸鍍方式量產 ITO透明 　　橢偏儀是一套薄膜檢測設備 ， 學技術日新月異 ，生活水準提升 ， 導電薄膜 ，因其具有易於光蝕刻加 其原理是運用橢圓偏光術 （一般簡 人們對物質生活的要求也越來越 工 、高可見光穿透率及導電性佳等 稱為橢偏術）為基礎的光學量測方 高 。對於各種電子產品的要求 ，除 優點 ，ITO 透明導電薄膜逐漸成為 法 ，可得到薄膜厚度 、折射率 、消 了須具備以往的輕薄短小等特性之 光電界的寵兒 。依照 ITO 透明導 光係數 、表面粗糙度等關鍵的結構 外 ，更要求人性化與便利性 。近年 電薄膜導電性不同 ，其所應用範圍 與材料參數 。其厚度精確度達奈米 來電子產品如PDA 、iPh on e 、TV 由觸控面板 、太陽電池到液晶 、電 以上的等級 ，折射率上的精確度 皆進行觸控介面功能整合即為實 漿顯示器而跟著有所差異 ，ITO透 達0.0 1以內 ，是高精確性的檢測設 例 。如今 ，透明導電膜已廣泛運用 明導電薄膜已成為具研究與經濟價 備 。非破壞性之量測方式 ，可用於 在日常光電產品 。本文將針對透明 值的熱門產物 ，無論是學術界或是 ITO透明導電薄膜鍍製後之薄膜光 導電薄膜Indium Tin Oxide （ITO ） 工業界 ，都積極投入其研究行列 ， 學特性品質監控 。 光連雙月刊2012 年3 月‧No.98 61 技術瞭望 橢圓偏光術於ITO透明導電膜量測應用（上） 二 、透明導電膜背景 、製 2-2 透明導電薄膜製備方法 （B ）直流或射頻反應式磁控濺鍍 備方法與光學特性分析 法 （DC or RF reactive magnetron 　 　 透 明 導 電 氧 化 物 薄 膜 sputtering ） 2- 1透明導電膜背景介紹[1] （Tr an sp ar ent con du ct iv e ox ide , 　　 主要是利用物理氣相沉 T C O ）在光電產業有著廣泛應 積 （P h y si c a l v ap or d ep o sit i on , 　　1954年 ，德國人Ruppr echt 首 用 ，如平面顯示器 、異質接面太 P V D ）方式來鍍製薄膜 ，其主要 先發現將金屬銦 （I n ）真空蒸鍍 陽能電池 、透明加熱組件 、抗靜 的原理是結合了高頻 （R F 約為 於石英基板後 ，於700～1,000℃在 電膜 、電磁波防護膜[2]等 。銦銻錫 13.6MHz ）以及磁控的方式來激發 大氣中氧化處理得到透明且具導 氧化物 （tin in dium oxide, ITO ） 產生電漿 。磁控的目的是增加電 電性In O 膜 ，當初認為導電性產 則是目前最被廣泛使用的一種氧 子的運動路徑 ，以增加電子與A r 2 3