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第29卷第8期 半导体学报 V01.29NO.8
OF
2008年8月 JOURNALSEMICONDUCTORS Aug.,2008
基于PID技术的深能级光离化截面测试方法*
J一
王 直莹1’’ 丁椰I李新化2nJ
(1安徽大学电子科学与技术学院,合肥230009)
(2中国科学院固体物理研究所材料物理重点实验室,合肥230031)
tive)技术的深能级中心光离化截面的测试方法.在针对分子束外延生长GaN材料的光离化截面测试中,使用该方法得到
能够精确地测试GaN材料中深能级光离化截面.与现有技术相比,该方法的优点是操作方便、测试相对准确,可作为一种
缺陷“指纹”鉴定的新方法应用于GaN材料的深能级研究中.
关键词:光离化截面;深能级中心;biD
PACC:7155G;7240;3280F
中图分类号:TN0474文献标识码:A 文章编号:0253.4177(2008}08—1585·04
载流子浓度[4].
1 前言
光电导谱,他提出持续光电导光电流上升的过程应当遵
深能级中心的光离化谱又称为深能级缺陷的“指 循指数规律,可以用下式描述:
(1)
纹”鉴定,同一种深能级缺陷在材料和器件结构中将展 G(t)=GD+GI(t)
(2)
现出相同的光离化谱谱型,通过深能级中心的光离化谱 G1(t)=Go(1一e叫’)
谱型分析,可以有效鉴定器件结构中存在的深能级中心 式中
是否同材料中的深能级中心一致. 之和,其中为ri为光电流上升的时间常数,由深能级缺
深能级中心光离化谱的测试关键在于测试不同入 陷的特点,t展现了对入射光谱的依赖特性,根据分析
射光情况下深能级中心的光离化截面.在GaAs体系可得
中,使用深能级中心瞬态光谱法可以精确测得~GaAs vi。C (3)
1/(aopt①)
材料和GaAs/AlGaAs结构中DX(donorcomplexy)中式中西对应于光子强度.
心光离化截面,使得基于深能级光离化谱分析的DX中 通过光电流上升的时间常数≈和入射光子强度西
心缺陷理论和实验研究在指导材料生长和器件制备工 的数值,可以计算出不同入射光照情况下深能级光离化
作中获得了巨大成功[1~3].由于GaN与GaAs同属于截面的相对值,并画出光离化截面同入射光子能量的关
Ⅲ.V族化合物半导体材料,因此,人们也期待使用同样 系,得到光离化谱[5].
的方法对GaN基材料的深能级中心进行研究.然而,由
于GaN材料禁带较宽,相应深能级中心能级较深,使得 深能级光离化截面的测量方法均建立在半导体器件和
基于锁相放大技术的深能级中心瞬态光谱法在GaN材材料的光电流特性分析的基础上.在Klein的方法中,
料体系的光离化截面测试研究中受到限制.Klein等人被测样品是高电子迁移率晶体管,在入射光子的作用
electronicmobil·
在GaN基高电子迁移率晶体管(high 下,从深能级中心逃逸出的载流子将进入GaN/AlGaN
transistors,HEMTs)的电流崩塌效应的
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