02 氧化沟工程设计.ppt

7 氧化沟设计计算 7 氧化沟设计计算 7.1 设计依据 7.1.1污水水质 7.1 设计依据 城市生活污水水质可使用的数据 BOD5可按25~50g/（人·d）计算 SS可按40~65g/（人·d）计算 TN可按5~11g/（人·d）计算 TP可按0.7~1.4g/（人·d）计算 7.1 设计依据 7.1.2污水水量 城市污水处理厂的设计流量包括如下： 平均日流量 设计最大流量 降雨时的设计流量 分期建设流量 7.1 设计依据 7.1.3出水水质 考虑方面： 可接纳水体的容量 国家规定排放标准 当地政府的要求 7.1 工程 设计依据 表7-1：污水处理厂基本控制指标项目最高允许排放浓度 7.1 设计依据 7.1.4处理程度 7.2 氧化沟工艺设计 一般规定 7.2 氧化沟工艺—池容设计 好氧区容积的计算 按BOD5 污泥负荷率计算 7.2 氧化工艺—池容设计 按容积负荷率计算 7.2 氧化沟工艺 —池容设计 按污泥泥龄计算 7.2 氧化沟工艺 —池容设计 缺氧区容积的计算； 7.2 氧化沟工艺 —池容设计 厌氧区容积的计算； 7.2 氧化沟工艺设计—主要参数 7.2 氧化沟工艺设计— 池型设计 7.2 氧化沟工艺设计— 需氧量 需氧量: 7.3 氧化沟设备设计—曝气设备 7.3.1水平轴曝气机 7.3 氧化沟设备设计— 曝气设备 1）氧化沟应根据污水特性、去除效率及运行条件等计算标准状态下污水需氧量，再根据曝气设备的充氧能力、动力效率选择满足充氧要求的曝气设备。 2）曝气设备宜兼有供氧、推流、混合等功能，可选用竖轴式机械表面曝气、转刷曝气、转盘曝气、鼓风式潜水曝气等。 3）竖轴式机械表面曝气机可按需氧量的20%备用，并有不少于1台采用变频调速控制。转刷和转盘曝气机宜备用1～2台。 4）转刷应布置在进弯道前一定长度（氧化沟的沟宽加1.6m）的直线段上。出弯道时，转刷应位于弯道下游直线段5.0m处。在直线段上的曝气转刷最小间距不宜小于15m。转刷的淹没深度一般为0.15m～0.30m。转刷或转盘应在整个沟宽上满布，并有足够安装轴承的位置。曝气转碟也可安装在沟渠的弯道上；转盘的浸深一般为0.40m～0.55m。 5）曝气设备应易于维修，易于排除故障。 7.3 氧化沟设备设计— 进出水装置 1）氧化沟的进水和回流污泥进入点一般宜设在曝气器的下游。有脱氮要求时，进水和回流污泥宜设在氧化沟的缺氧区（池），与曝气设备保持一定的距离。氧化沟的出水点应设在进水点的另一侧，并与进水点和回流污泥进入点足够远，以避免短流。有除磷要求时，从二沉池引出的回流污泥可通至厌氧区（池）或缺氧区（池），并可根据运行情况调整污泥回流量。 2）氧化沟宜在进水管上设置闸板或闸阀。 3）氧化沟宜设置放空管和清液排放管。 4）氧化沟的出水口宜设置溢流堰。 7.3 氧化沟设备设计—搅拌推流装置 水下推进器: 推动和混合氧化沟内的 混合液， 增加沟底流速，保持污 泥悬浮并提高 曝气效率。 7.3 氧化沟设备设计— 搅拌推流装置 1）氧化沟应确保沟底不产生沉泥。池内介质距池底0.3m，水平平均流速宜控制在0.25m/s～0.30m/s之间。 2）氧化沟选择的曝气设备不能满足推动和混合要求时，宜增设搅拌、推流装置。为使介质混合均匀宜设搅拌机，为使介质循环流动、产生层面推流作用宜设推流器。 3）搅拌机选型时应考虑池型，搅拌机设置的容积功率宜控制在3W/m3～10W/m3之间。 4）推流器选型时的推力选择应考虑池型、导流墙设置、曝气机设置、曝气量等因素，推流器设置的容积功率宜控制在1W/m3～3W/m3之间。 5）推流器的设置宜符合HJ/T 279规定。 7.4 氧化沟检测自控设计 1）氧化沟检测 （1）氧化沟宜设溶解氧检测仪和水位计，大型污水处理厂宜增设污泥浓度计。污泥浓度计宜设于好氧区（池）平稳段。 （2）厌氧区（池）的溶解氧浓度应控制在0.2mg/L以下，缺氧区（池）的溶解氧浓度应控制在0.2～0.5mg/L，好氧区（池）的浓度一般不小于2.0mg/L。 （3）好氧区（池）污泥浓度宜根据处理要求控制在设计参数范围内，表中参数值时，宜加大排泥量。 2）回流污泥及剩余污泥检测 （1）回流污泥宜设流量计，并采取能满足污泥回流量调节要求的措施。 （2）剩余污泥宜设流量计，条件允许时可增设污泥浓度计，用于监测、统计污泥排出量。 3)详见自控设备图 7.4 氧化沟检测自控设计 自动控制系统 1）自动控制系统应具有信息收集、处理、控制、管理和安全保护功能。 2）自动控制系统的设计应符合下列要求： （1）宜对控制系统的监测层、控制层和管理层做出合理配置； （2）应根据