双重图形技术优化设计.pdfVIP

第25卷第12期 机 电 工 程 V01．25No．12 2008年12月 MechanicalElectrical Dec．2008 EngineeringMagazine 双重图形技术的优化设计 潘意杰，陈晔 (浙江大学超大规模集成电路研究所，浙江杭州310027) 摘 要：作为集成电路光刻设计下一节点发展的候选之一，双重图形技术(DPT)面临的诸多复杂过程将 影响其在制造领域的迅速应用，其中最突出的因素是设计的复杂度和数据量急剧增长。通过分析版图 分解问题和光学邻近校正(OPC)中的信息重用，在重分解修正后的版图与前次OPC数据一分段和段偏 移量之间建立了关联，并进行了相关实验。实验结果表明，在保证版图校正精确度的同时，可节省大量 的运行时间，同时也有效地缩短了DPT的流程。 关键词：可制造性设计；双重图形技术；光学邻近校正；分辨率增强技术；重用 中图分类号：TN305．7 文献标识码：A fordouble Optimizationdesign patterningtechnology PAN Ye Yi．jie．CHEN VLSI 31 (Instituteof Design，ZhejiangUniversity，Hangzhou0027，China) for of Abstract：Asoneofcandidatesnextnodein circuit(IC)，doable lithographyintegrated patterning that it from utilizedin mostconcernedfactoristhatits complicatedprocesssteps mayprevent being production．The complexity anddatavolumeincrease and dramatically．Byanalyzingdecompositionproblemsopticalproximity scheme between from and basedon wasset OPC frag· segments，arelationshipup changedlayout re·splitpreviousdata，namely mentationandoffset arecarriedoutandshowthata amountofrnntimeissavedwhile the information．Experiments large keeping samesatisfied inDPTisshortened resultsandthecircle efficiently． for Keywords：designmanufacturabiIity(DFM)；doublepatterningtechnology(D盯)；opticalproximitycorrection(O