双重图形技术优化设计.pdfVIP

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  • 2017-11-03 发布于湖北
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第25卷第12期 机 电 工 程 V01.25No.12 2008年12月 MechanicalElectrical Dec.2008 EngineeringMagazine 双重图形技术的优化设计 潘意杰,陈晔 (浙江大学超大规模集成电路研究所,浙江杭州310027) 摘 要:作为集成电路光刻设计下一节点发展的候选之一,双重图形技术(DPT)面临的诸多复杂过程将 影响其在制造领域的迅速应用,其中最突出的因素是设计的复杂度和数据量急剧增长。通过分析版图 分解问题和光学邻近校正(OPC)中的信息重用,在重分解修正后的版图与前次OPC数据一分段和段偏 移量之间建立了关联,并进行了相关实验。实验结果表明,在保证版图校正精确度的同时,可节省大量 的运行时间,同时也有效地缩短了DPT的流程。 关键词:可制造性设计;双重图形技术;光学邻近校正;分辨率增强技术;重用 中图分类号:TN305.7 文献标识码:A fordouble Optimizationdesign patterningtechnology PAN Ye Yi.jie.CHEN VLSI 31 (Instituteof Design,ZhejiangUniversity,Hangzhou0027,China) for of Abstract:Asoneofcandidatesnextnodein circuit(IC),doable lithographyintegrated patterning that it from utilizedin mostconcernedfactoristhatits complicatedprocesssteps mayprevent being production.The complexity anddatavolumeincrease and dramatically.Byanalyzingdecompositionproblemsopticalproximity scheme between from and basedon wasset OPC frag· segments,arelationshipup changedlayout re·splitpreviousdata,namely mentationandoffset arecarriedoutandshowthata amountofrnntimeissavedwhile the information.Experiments large keeping samesatisfied inDPTisshortened resultsandthecircle efficiently. for Keywords:designmanufacturabiIity(DFM);doublepatterningtechnology(D盯);opticalproximitycorrection(O

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