含氟硅低表面能共聚物的制备与表征.pdfVIP

含氟硅低表面能共聚物的制备与表征.pdf

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27 5 Vol . 27, No. 5 2011 5 POL Y MER MA T ER IA LS SCIEN CE AN D EN G INEERIN G M ay 2011 张良俊, 廖翌滏, 林苏娟, 蔡建坤, 谢 聪, 许一婷, 戴李宗 ( , , , 36 1005) 将丙烯酸六氟丁酯和甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷与( 甲基) 丙烯酸( 酯) 进行共聚, 合成含氟硅共聚物用 红外光谱( FTIR) X 射 光电子能谱( XPS) 和热重分析( T GA ) 对共聚物的结构和性能进行表征, 并测试了共聚物膜的 吸水率及对水和油的接触角XPS 结果表明, 共聚物膜表面的F 和Si 元素相对物质的量明显高于 150 nm 深处, 同时共 聚物膜对水和油的静态接触角分别达到 110和 80以上, 说明F Si 元素自组装迁移, 形成了低表面能表面; T GA 研究结 果表明, 共聚物膜的热分解温度从195 提高到226 , 升温过程中分解速率明显降低该含氟硅共聚物具有良好的热 稳定性低的吸水率和良好的疏水防污性 ; ; ; T Q 316. 34 2 A 10007 555( 20 11) ; ( BPO) [ 1] N icolet Avatar 360 N icolet ; , C- F, , F N ET ZSCH ST A 409EP N ET ZSCH , , ; PHI Quant um 2000 ( XPS ) , PH YSICA L EL ECT R ON ICS PH I ; JC2000A [ 2] 1. 2 [ 3] , ( ) ( ) , , , [ 4] , , 50 ~ 60 , ( A ct yf lonG0 1 HF M MA MAA BA KH570 ; BA ) ( KH570) 30 m in HFBA BA ( ) ( ) ; , 1 h ~ 2 h; 10 min ~ 30 m in ; , 70 ~ 80 , 6 h~ 8 h, , 10 , , , 1 1. 3 1. 1 1. 3. 1 固含量及转化率 2 g ( MM A) (

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