有机膦与聚合物抑制剂对氟硅酸钠钾结垢性能的协同抑制作用.pdfVIP

第３１卷 第６期 应 用 化 学 Ｖｏｌ．３１Ｉｓｓ．６ ２０１４年６月 　　　　　　　ＣＨＩＮＥＳＥＪＯＵＲＮＡＬＯＦＡＰＰＬＩＥＤＣＨＥＭＩＳＴＲＹ　　　　　　　 Ｊｕｎｅ２０１４ 有机膦与聚合物抑制剂对氟硅酸钠（钾） 结垢性能的协同抑制作用  沈香花　尹晓爽 　杨文忠 （南京工业大学理学院　南京２１１８１６） 摘　要　采用浊度法和静态抑垢法，研究了抑制剂２膦酸基１，２，４三羧酸丁烷（ＰＢＴＣＡ）与水解聚马来酸酐 （ＨＰＭＡ）对氟硅酸钠（钾）结晶的影响。运用经典结晶成核理论解释了抑制机理，利用扫描电子显微镜和Ｘ射 线衍射技术表征了氟硅酸钠（钾）的晶体形貌和晶型。结果表明，ＰＢＴＣＡ与ＨＰＭＡ通过提高氟硅酸钠（钾）结 晶时的表面自由能而抑制氟硅酸钠（钾）的析出。ＰＢＴＣＡ与ＨＰＭＡ之间存在明显的协同作用，ＰＢＴＣＡ与ＨＰＭＡ ２ ２ ＋ 共同作用使ＮａＳｉＦ的结晶表面自由能从１０８ｍＪ／ｍ升高至１２６ｍＪ／ｍ，溶液中Ｎａ的阻垢率从６２％上升至 ２ ６ ２ ２ ＋ ７０３％；使ＫＳｉＦ的结晶表面自由能从 １９９ｍＪ／ｍ升高至２３０ｍＪ／ｍ，溶液中Ｋ 的阻垢率从 １０２％升高至 ２ ６ ４５３％。ＰＢＴＣＡ与ＨＰＭＡ的加入使氟硅酸钠（钾）的粒径变小，颗粒分散；空白溶液中晶体主要为 ＮａＫＳｉＦ， ６ ＰＢＴＣＡ与ＨＰＭＡ混合体系中结晶产物主要为ＮａＳｉＦ和ＫＳｉＦ。 ２ ６ ２ ６ 关键词　氟硅酸钠（钾），诱导时间，阻垢，表面自由能 中图分类号：Ｏ６５７　　　　　文献标识码：Ａ　　　　　文章编号：１００００５１８（２０１４）０６０７３２０５ ＤＯＩ：１０．３７２４／ＳＰ．Ｊ．１０９５．２０１４．３０３６０ 在湿法磷酸生产过程中极易产生氟硅酸钠（钾）垢，这些垢往往牢固地集结在泵壳体、叶轮等处，严 ＋ ＋ ２－ 重影响磷酸装置的连续运行。这些垢的形成主要是由于磷矿石在分解过程中产生的Ｋ 、Ｎａ与ＳｉＦ ６ ［１３］ 结合所致 ，为了解决这一结垢问题，人们采取了一系列的措施，如降低真空系统的真空度，改变过滤 系统的结构等，这些措施只能部分缓减管路设备的堵塞问题，并不能从根本上解决氟硅酸钠（钾）的析 ［４６］ 出，基于此，人们又开发出一系列化学方法 ，通过加入抑制剂来抑制氟硅酸钠（钾）的沉积，在这些抑 制剂中，有机膦与聚合物抑制剂扮演了很重要的角色。利用这两类阻垢剂抑制氟硅酸钠（钾）结垢的理 论研究较少，且均集中在对抑制剂效果进行宏观评价，鲜见对其抑制过程及机理加以讨论。本文利用有 机膦和聚合物在抑垢方面的不同优势，从晶体生长的角度探讨了２膦酸基１，２，４三羧酸丁烷（ＰＢＴＣＡ） 与水解聚马来酸酐（ＨＰＭＡ）对氟硅酸钠（钾）的抑制过程，通过对氟硅酸钠（钾）结晶时表面自由能的推 算及结晶产物的表征，讨论了抑制机理，以便为研究氟硅酸钠（钾）阻垢的构效关系提供依据。 １　实验部分 １．１　仪器和试剂 ＧＤＳ３Ｂ型光电式浊度仪（无锡科达仪器厂），ＪＳＭ６４８０型扫描电子显微镜（日本日立公司），ＤＸ ２０００型Ｘ射