犃犜犗透明导电薄膜的研究进展.PDFVIP

第 卷 第 期 机 械 工 程 材 料 ３７ １０ Ｖｏｌ．３７ Ｎｏ．１０ 　 　 　 　 　 　 年 月 ２０１３ １０ Ｏｃｔ． ２０１３ 　 Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｆｏｒ ＭｅｃｈａｎｉｃａｌＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　 　 　 ｇ ｇ 犃犜犗透明导电薄膜的研究进展 赵 祯，张健民，吴 姣，席运泽，杨东麟，苏玉长 （中南大学材料科学与工程学院，长沙４１００８３） 摘 要：概述了国内外掺锑氧化锡（ ）透明导电薄膜制备技术的研究现状，包括溶胶凝胶 ＡＴＯ 　 法、射频磁控溅射法、喷雾热解法、化学气相沉积法等，对比分析了各种制备方法的优缺点和及其所 制备薄膜的性能；介绍了薄膜厚度、锑掺杂浓度、退火工艺参数等对薄膜光学性能的影响，提出了开 发具有良好光学性能ＡＴＯ薄膜需要解决的问题。最后对ＡＴＯ薄膜今后的发展方向进行了展望。 关键词：ＡＴＯ薄膜；制备方法；光学性能 中图分类号： 文献标志码： 文章编号： （ ） ＴＢ３２ Ａ １０００３７３８２０１３０１００００５０５ 　　　 　　　 犚犲狊犲犪狉犮犺犘狉狅犮犲狊狊狅犳犃犜犗犜狉犪狀狊犪狉犲狀狋犆狅狀犱狌犮狋犻狏犲犜犺犻狀犉犻犾犿狊 狆 ， ， ， ， ， 犣犎犃犗犣犺犲狀 犣犎犃犖犌犑犻犪狀犿犻狀 犠犝犑犻犪狅犡犐犢狌狀狕犲犢犃犖犌犇狅狀犾犻狀犛犝犢狌犮犺犪狀 犵 犵 （ ， ， ， ） ＳｃｈｏｏｌｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｉｎｅｅｒｉｎ ＣｅｎｔｒａｌＳｏｕｔｈＵｎｉｖｅｒｓｉｔ Ｃｈａｎｓｈａ４１００８３Ｃｈｉｎａ ｇ ｇ ｙ ｇ ： （ ） 犃犫狊狋狉犪犮狋Ｔｈｅｃｕｒｒｅｎｔｓｉｔｕａｔｉｏｎｏｆａｎｔｉｍｏｎｄｏｅｄｔｉｎｏｘｉｄｅ ＡＴＯ ｔｈｉｎｆｉｌｍ ｒｅａｒａｔｉｏｎｔｅｃｈｎｉｕｅｓｉｓ ｙ ｐ ｐ ｐ ｑ ， ， ， ， ｏｕｔｌｉｎｅｄ ｉｎｃｌｕｄｉｎ ｓｏｌｅｌｍｅｔｈｏｄ ｒａｄｉｏｆｒｅｕｅｎｃ ｍａｎｅｔｒｏｎｓｕｔｔｅｒｉｎ ｓｒａ ｒ