生长温度对磁控溅射ZnO薄膜的结晶特性和光学性能的影响!-物理学报.PDFVIP

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生长温度对磁控溅射ZnO薄膜的结晶特性和光学性能的影响!-物理学报

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 ’’ C #%%$ C , , , DP6 /’’ FP / C I5TA: #%%$ ( ) !%%%3C#G%S#%%$S’’ %C S !CG%3%( QKHQ MUV*WKQ *WFWKQ !#%%$ K:+- / M:8O / *PA / 生长温度对磁控溅射!# 薄膜的结晶特性 和光学性能的影响! ) ) ) ) ) ) ! ! ! ! # # 孙成伟 刘志文 秦福文 张庆瑜 刘 琨 吴世法 !)(大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 !!$%# ) # )(大连理工大学物理系,大连 !!$%# ) ( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿) #%%’ ( !% #%%’ ( #) 采用反应射频磁控溅射方法,在 ( )基片上制备了具有高 轴择优取向的 薄膜 利用原子力显微镜、 *+ !%% ! ,-. / 透射电子显微镜、射线衍射分析、拉曼光谱等表征技术,研究了沉积温度对 薄膜的表面形貌、晶粒尺度、应力 0 ,-. 状态等结晶性能的影响;通过沉积温度对透射光谱和光致荧光光谱的影响,探讨了,-. 薄膜的结晶特性与光学性 能之间的关系 研究结果显示,在室温至 的范围内, 薄膜的晶粒尺寸随沉积温度的增加而增加,在沉积温 / ’%%1 ,-. 度为 时达到最大;当沉积温度为 时, 薄膜的晶粒尺度有所减小;在室温至 的范围内,薄膜中 ’%%1 )’%1 ,-. )’%1 晶粒与 基体之间均存在着相对固定的外延关系;在沉积温度低于 时,制备的 薄膜处于压应变状 ,-. *+ ’%%1 ,-. 态,而 时沉积的薄膜表现为张应变状态 沉积温度的不同导致 薄膜的折射率、消光系数、光学禁带宽度以 )’%1 / ,-. 及光致荧光特性的变化,沉积温度对紫外光致荧光特性起着决定性的作用/ 此外,探讨了影响薄膜近紫外光致荧光 发射的可能因素/ 关键词: 薄膜,表面形貌,微观结构,光学常数 ,-. : , ,

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