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The Influence of Surface DBD Plasma Treatment on the Adhesion of Coatings to High-Tech Textiles表面介质阻挡放电等离子体处理对涂层粘合到高新技术纺织品的影响; DBD等离子体的介绍;用等离子体处理的原因;1、PET织物的构成;2、等离子体处理实验;图1.等离子体处理的实验装置 Revolving sample carrier: 样品旋转架 Chamber: 内室 AL2O3 plate:三氧化铝板 HV electrode:高压电 Ground electrode:接地电极 Gas outlet: 气管口 Power supply:电源;图2.在空气中产生表面介质阻挡放电等离子体;3、等离子体处理后;4、涂层的制备;5、粘合力试验;实验结果;6、润湿性测验;实验结果;7、XPS光谱和SEM （扫描电子显微镜）分析;实验结果;图3。未经处理的织物和N2 + AAc等离子体处理后织物的C1s谱反褶积。等离子体处理样品的处理时间为5秒。; 在纺织工业中，两种不同类型的涂层通常应用于纤维表面。第一种类型是直接应用于聚合物熔融挤压形成的长丝。它主要是基于聚（环氧乙烷）的（非离子表面活性剂）得以运用。对于含氧基团，它只包含C–O键。第二种类型通常是应用于织造前的经纱线。对于涤纶纱，涂层组成的成分大多是有等量的C–O和C = O键的低分子量的聚（对苯二甲酸乙二醇酯）。这意味着，该涂层与纱线具有相同的结构，但低分子量较多。;表4.由高分辨率C1s峰计算得出未经等离子体处理的和等离子体处理后的涤纶织物表面的官能团成分;由图4中可知，N2 + H2O，CO2和N2 + AAc 的样品C1s谱，相对于标准样品比较稍窄。此外，信号强度的变化归因于等离子体处理过的表面的C = O键下降。;; C–O键百分比的增加表明等离子体处理后织物表面上的羟基含量增加。该基团能够与PU涂层形成氢键，即聚合物–NH2和—COOH末端基团与酰胺[CO–NH ]单体单元之间的联系。在PVC涂层，活性二异氰酸酯的增加能与纤维表面的羟基基团形成氢键或直接与基团反应形成同极（共价）化学键。;SEM分析;图6。SEM照片（a）标准的织物，N2等离子体处理的织物（b），（c）N2 + H2O等离子处理，（d）N2 + AAC处理，（e）二氧化碳等离子体处理，时间均为5秒。; SEM照片获得更高的放大倍数，如图7所示，清楚表明在纱线表面粗糙度的变化。N2 + AAC等离子体处理的样品的显微照片表明一个薄的聚合物层沉积。CO2等离子体在分别5s和10s处理后的纤维表面的粗糙程度可在图7E和7F中看出。;总结; N2 + AAC等离子体处理的样品的SEM图片显示了一个薄的聚合物层沉积。在这种情况下，涂层的粘附力取决于沉积层的化学成分和纯丝表面，浆料与等离子体聚合层的界面粘附性。 　　 支持上述假设，样品处理的额外的分析则需要更长的处理时间，例如10s和15s而不是5s。为了更详细的了解，这很有必要进行甚至用FT-IR分析。 由于等离子体处理进行分批处理和等离子体是由放电电极的金属条形成（见图1和图2），等离子体表面的改性是不均匀的。因此可以预计，连续处理（就是对处理后的织物移到放电电极表面的处理）导致均匀的表面改性，将粘接性能进一步的改善。 ;4、发展;　　 一个大的表面介质阻挡放电电极的制造是不简单的。大多数实验，如在本研究中提出了利用氧化铝陶瓷板的典型尺寸100毫米100毫米来实现，但是不能放大到工业规模所需要几米的更大宽度。此外，在许多情况下，介质阻挡电极材料需要冷却和特殊规定的气体均匀分布。 　　 电极系统目前正在开发以满足放大的主要要求。它由平行的陶瓷管阵列组成，每个都具有内部和外部电极。陶瓷管是由陶瓷涂层的金属电极或挤压陶瓷管制造并在内部电极后加入。图8显示了通过加工挤出的陶瓷管得到的陶瓷元件示意图。注意外部电极位于所述元件的侧表面，允许等离子体处理的织物沿光滑平整的陶瓷部分。处理表面的表面介质阻挡放电电极通过在单一平面的表面精确定位的管阵列加工获得。; 根据管陶瓷阵列组成而获得的表面介质阻挡放电管阵列元件，如图9所示。 几个管阵列模块，如图9所示，可以组合成满足更高的功率需求或多步处理条件。每个模块的每一个元