锥光镜下光学性质.pptVIP

六、实验报告： 二轴晶干涉图的观察及测定 石膏∥光轴面 白云母 ⊥Bxa 重晶石 垂直一 个光轴 转动物 台时的 变化 450位 00位 本切面 光率体 轴名 2V 光性正 负的测定 锥光镜下干涉图的特点 正交 偏光 干涉 色 干涉图 的 类型 思考题 1、偏光显微镜的锥光装置有哪些？锥光的光路特点与正交偏光有何异同点？ 2、一轴晶的干涉图有哪几类？各有什么特点和用途？ 3、常见的二轴晶的干涉图有哪几类？各有什么特点和用途？ 转动物台，波向图中心部分的光率体椭圆半径首先与PP、AA斜交而变亮，所以黑十字从中心分裂。当光轴面与PP、AA成450夹角时（图54B），只有两个弯曲黑带范围内的光率体椭圆半径与PP、AA平行或近于平行，在正交偏光镜间消光或近于消光，构成对称的两个弯曲黑带。 干涉色圈的成因 在黑十字或弯曲黑带范围以外，光率体椭圆半径与PP、AA斜交（图54），在正交偏光镜间发生干涉作用，如为白光光源，形成干涉色。 图54 二轴晶⊥Bxa切面干涉图中的黑十字（A）及弯曲黑臂的成因 为什么构成“∞”干涉色圈，而且干涉色级序愈外愈高？这是因为二轴晶晶体有两个光轴。在垂直Bxa的晶片中，Bxa方向垂直晶片平面，两个光轴方向是倾斜的（图55）。光波沿两个光轴方向射入时，不发生双折射，其光程差等于零。斜交光轴射入的光波，发生双折射，其光程差从光轴出露点的零起，向外逐渐增加，因而相应的干涉色以两个光轴出露点为中心，向外干涉色级序逐渐升高，愈外干涉色级序愈高。光轴出露点的两侧，光程差增加的速度不相等。 图55 垂直Bxa切面干涉图中的干涉色圈成因示意图 在光轴与Bxa之间（图55），斜交光轴的入射光波，随着入射光与光轴斜交角度的加大，其双折射率和光波在晶片中经历的距离（即晶片厚度）都是逐渐增加，故其光程增加速度较快。在光轴的另一侧，即光轴与Bxa之间，斜交角度的入射光波，随着入射光波与光轴斜交角度的加大，虽其双折射率逐渐加大，但光波通过晶片的距离（即晶片厚度）逐渐减小，故其光程差增加速度较慢，而且到达Bxa 出露点达最大值不再增加。 图55 垂直Bxa切面干涉图中的干涉色圈成因示意图 所以在光轴出露点的两侧，光程差相等点与光轴出露点间的距离不相等，在Bxa出露点一侧的距离较长（因其光程差增加速度较慢）；在Bxo出露点一侧的距离较短（因其光程差增加速度较快）。因此，在两个光轴出露点的周围，光程差相等，干涉色相同的点，构成两个卵形。在Bxa出露点，光程差不再增加，干涉色级序不再升高。故其干涉色圈相连而构成“∞”字形。 图55 垂直Bxa切面干涉图中的干涉色圈成因示意图 3、光性正负测定 二轴晶的光性正负是以Bxa=Ng，Bxo=Np时为正光性，Bxa=Np，Bxo=Ng为负光性。因此，测定二轴晶的光性正负实际上就是测定Bxa是Ng，还是Np。在垂直Bxa切面的干涉图中，当光轴面与上、下偏光镜振动方向成450夹角时，视域中心为Bxa出露点，二弯曲黑臂顶点为两个光轴出露点。 图56 二轴晶⊥Bxa切面干涉图中，光轴面迹线上光率体椭圆长短半径的分布方位 两个光轴与Bxa出露点的连线为光轴面与薄片平面相交的迹线，垂直光轴面迹线的方向为Nm方向。弯曲黑臂顶点内外的光率体椭圆半径的分布方位，因光性正负而不同（图56）。 图56 二轴晶⊥Bxa切面干涉图中，光轴面迹线上光率体椭圆长短半径的分布方位 从图56中可知，与光轴面迹线一致的光率体椭圆半径的名称，在二轴晶出露点内外恰恰相反，但无论光性是正或是负，双曲线（即黑臂）总是凸向Bxa（锐角区），凹向Bxo（钝角区）。同时无论在锐角区或钝角区，干涉色级序的变化便能确定光性正负。 图56 二轴晶⊥Bxa切面干涉图中，光轴面迹线上光率体椭圆长短半径的分布方位 例如，加入试板弯曲黑臂变为红臂，如果锐角区干涉色由灰变蓝，干涉色升高，说明Nm方向与试板慢光平行，垂直Nm振动的应当为快光Np，则锐角等分线就是Ng，因此该二轴晶是正光性。如果锐角区干涉色由灰变黄，干涉色降低，说明Nm方向为快光，与之垂直振动的应为慢光Ng，则锐角等分线为Np，因此该二轴晶为负光性（图57）。 图57 垂直Bxa切面干涉图中，弯曲黑臂范围以外仅是一级灰，加入石膏试板后的变化 钝角区与锐角区干涉色的升降正相反，分析钝角区干涉色的变化情况也能得出与上述相同的结论。若钝角区由灰变黄干涉色降低，说明Nm为快光，与Nm垂直振动的光为慢光Ng，则钝角等分线为Np，所以仍为二轴晶正光性。若钝角区由灰变蓝，干涉色升高，说明Nm为慢光，与Nm 垂直的振动为快光Np，则钝角等分线为Ng，也为二轴晶负光性。 图57 垂直Bxa切面干涉图中，弯曲黑臂范围以外仅是一级灰