薄膜材料物理,第一章薄膜的形成.ppt

课程主要内容 第一章：薄膜的形成 第二章：薄膜的力学性质 第三章：金属薄膜的电导 第四章：薄膜的表面和界面 第五章：介质薄膜的电学性质 第六章：压电薄膜的电学性质 本征吸附能：第一个原子层与基体表面间的结合能。 内聚能: 吸附层数增多,相邻两层间的结合能→汽化 潜热。 物理吸附 范德华力 作用范围大(0.4nm) 化学吸附 化学键力 作用距离小(0.1~0.3nm) 物理吸附：低温吸附，高温解吸附。 化学吸附：常温下很难解吸附，高温提供能解吸 附所需的活化能。 ②定量描述（吸附） 气相中一个原子的动能： 基体中一个原子的动能（热平衡）： 一般： 若碰撞，入射原子能快速交出多余能量，则易被 吸附，引入适应系数 ③吸附原子在基片上的状态 重蒸发 基片表面上迁移 形成原子对或原子团 重蒸发： 在基片表面上的迁移速率 形成原子对 因为每个吸附原子的捕获面积内，至少都有两 个吸附原子。因此，所有的吸附原子都能结合成对 成为更大的原子团，从而达到完全凝结。 ∴制膜工艺条件： 各种大小不等的原子团处于动态平衡，各种原子团的数量达到稳定值，所以： 薄膜材料与基片种类 决定最小稳定核=临界核 一般认为：玻璃上淀积金属 最小稳定核≈3~10个原子 §1.3 成核理论 第一讲 第一章 薄膜的形成 《薄膜材料物理》研究生课程 参考教材： 薄膜物理，曲喜新编著，上海科学技术出版社 1986，上海 薄膜物理，薛增泉、吴全德、李洁，电子工业出版社，1991，北京 机械方法（涂上） 薄膜材料制备 物理方法（物理气相沉积PVD） 化学方法（化学气相沉积CVD） 第一章 薄膜的形成 第一讲 本章主讲物理气相沉积（PVD）:磁控溅射、热蒸发、 二级溅射等。 气相 吸附相 固相 单个原子吸附在基体上，由几个被吸附的单个原子相 互结合形成小原子团（凝结相），小原子团长大，晶核， 晶核继续长大，形成不连续薄膜，形成连续薄膜。 范德华力为主 §1.1 单体的吸附 ①概念：一个自由原子进入基体的作用力场以后，到达基体表面被物理吸附，其吸附能（根据固体理论）： 化学吸附本质：吸附原子与基体表面原子之间发生了电子转移→成共有→形成化学键→键能5eV以上。 单层吸附：先是物理吸附，后化学吸附（可能） 多层吸附：下为化学吸附，上为物理吸附。 n0为单位面积上的吸咐点数 1、初始凝结 S∑＜1 重新蒸发掉，不凝结 1＜S∑＜2 部分凝结，部分再蒸发 S∑＞2 完全凝结 §1.2 小原子团的吸附 小原子团的形成 初始凝结 小原子团的变化速率 临界核 成膜初始阶段，各种大小不一的小原子团 边形 成、边分解、又生长、又蒸发 动态平衡。 2、小原子团的变化速率 要形成薄膜，需有特殊的小原子团产生,其特殊性：它不分解出单原子或双原子等，是稳定的。 稳定核（大小不一） 最小稳定核 即各原子团数量的变化率等于零，产生率=消失率 当R=0 不形成薄膜 3、临界核定义 比最小稳定核 少一个原子 包括： 微滴理论——热力学方法 原子理论——统计物理学方法 1、微滴理论: 气相→ 吸附相→固相形成薄膜，视原 子团微小的凝聚滴. 成核过程定性分析: ① 随小原子团增大,表面能增大, 体系自由能 增加 ?G个； ② 到临界核时，自由能增加到最大值?Gmax； ③ 原子团再增大， ?G↓→稳定核 设基片表面有一个微滴如图，由热力学理论，形成这个微滴时，总自由能的变化为： ?G=a3r3gv+a1r2σ0+a2r2σ1-a