精密工作台的光栅定位测量与控制系统设计.doc

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精密工作台的光栅定位测量与控制系统设计

精密工作台的光栅定位测量与控制系统设计 姓名: 学号: 班级:09测控1班 指导老师:陈本永、王丽敏 目录 1 国内外现状概述 3 1.1 概述 3 1.2 光栅检测现状 4 2 总体方案设计 5 2.1 方案构思 5 2.2 说明 6 3 测量系统设计 6 3.1 测量方案 6 3.2 光栅尺位移传感器 7 3.3 光电转换 9 3.4 信号细分电路 12 4 控制系统设计 15 4.1 控制方案 15 4.2 静态参数设计 16 4.3 动态特性分析 16 4.4 硬件电路的实现 18 5 测控电路 21 5.1 测控总体方案 21 5.2 测控电路 21 6 展望与总结 23 7 参考文献 24 国内外现状概述 概述 作为精密机械与精密仪器的关键技术之一一微位移技术,近年来随着微电子技术、宇航、生物工程等学科的发展而迅速的发展起来。例如用金刚石车刀直接车削大型天文望远镜的抛物面反射镜时,要求加工出几何精度高于l/l0光波波长的表面,即几何形状误差小于0.5u m。计算机外围设备中大容量磁鼓和磁盘的制造,为保证磁头与磁盘在工作过程中维持1um内的浮动气隙,就必须严格控制磁盘或磁鼓在高速回转下的跳动。特别是到20世纪70年代后期,微电子技术向大规模集成电路和超大规模集成电路方向发展,随着集成度的提高,线条越来越微细化。256K动态RAM线宽已缩小到1.25um左右,目前己小于0.1um,对与之相应的工艺设备(如图形发生器、分步重复照相机、光刻机、电子束和X射线曝光机及其检测设备等)提出了更高的要求,要求这些设备的定位精度为线宽的1/3~1/5,即亚微米甚至纳米级的精度。 随着数控技术在机床制造领域的普及,现代机床在加工速度,加工精度和可靠性方面都有了巨大的进步。作为核心技术之一的光栅测量技术对保障现代机床的各项性能指标起着决定性的作用。清楚了解现代光栅测量技术的发展趋势,正确选择适合自身需求的光栅测量系统对机床设计师和机床用户有着重要的意义。 目前,测量技术已经相当成熟,但随着现代工业技术的发展,对测量的要求也会随之提高。为了满足更高的要求,测量技术不但要达到更高的分辨率,还要适应更复杂的工作环境在长度量检测系统中,光栅测量系统占有明显优势,有着广泛的市场前景。栅式测量系统是将一个栅距周期内的绝对式测量和周期外的增量式测量结合起来,测量单位不是像激光一样的光波波长,而是通用的米制(或英制)标尺。光栅长度测量系统的分辨率已覆盖微米级、亚微米级和纳米级;测量速度从60m/min至480m/min。测量长度从1m、3m至30m和100m1999年10月在中国召开的“面向21世纪计量测试理论与仪器”研讨会认为:纳米级测量已经成为当今测量领域的热点,在新的世纪要继续解决好纳米尺度的产生、标定及传递的理论和技术,制造出更新型的纳米精度的计量测试仪器在如此背景下,精密工作台光栅定位测量与控制系统设计也就这样应运而生,该研究能很好的满足超精密加工和超精密检测的要求,对现代工业技术的发展具有重要意义。 1960年前后,并在光栅和圆光栅的制造、应用方面取得了许多成果。但是,我们与当今世界上主要的光栅测量装置生产厂家相比,(如德国的OPTION、HEIDENHAIN公司、日本的三丰、双叶、美国的BL公司等)还有一定的差距,主要表现在:制造精度比较低、批量程度差、品种比较单一。 此外,目前发达国家在数控技术方面均投人大量的人力物力,研究和开发了一系列新一代的数控设备。例如,德国的SIEMENS公司、日本的FUNAC公司等等。虽然我国数年来也不断对数控技术进行发展,但是出于种种原因,直到今天我国数控领域依然处于比较落后的局面,我们必须对数控技术不断加以研究和探索,使整个现代工业加工的基础领域能有较大的发展,从而使工业经济得到发展。 总体方案设计 方案构思 图2-1 总体方案框图 本系统的总体思路:直流电机接到测控电路的脉冲信号和方向信号,并按直流电机状态转换表要求的状态顺序产生各相导通和截止信号。因此,直流电机转速的高低、顺转或逆转、升速或降速、启动或停止都完全取决于脉冲的有无、方向或频率。直流电机的转动带动工作台进行相应的直线位移。通过光栅位移传感器测量当前工作台的实际位移,再把测量到的实际位移反馈到控制电路。控制电路把实际位移与给定位移进行比较,通过实际位移与给定位移的偏差实现对工作台的位置进行控制。测控电路把输出通过脉冲信号传到直流电机驱动器。从而实现对工作台的校正。系统总体方案框图见图2-1。 在测试技术中,传感器是实现自动检测和自动控制的首要环节,它担负着感受和传输信号的重要任务。传感器的类型是多种多样的,其优缺点也是各有侧重。这里采用较高的系统定位精度(0.1um),故选择光栅位移检测系统。光栅经接收元件后变为周期性变化的

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