硅衬底双层微带线不连续性等效电路的研究.pdfVIP

硅衬底双层微带线不连续性等效电路的研究.pdf

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第39卷 第6期 兰 州 理 工 大 学 学 报 V01.39 No.6 2013年 12月 JournalofLanzhouUniversityofTechnology Dee.2013 文章编号:1673—5196(2013)06-0103—04 硅衬底双层微带线不连续性等效电路的研究 于正永 ,蔡文博 (1.淮安信息职业技术学院计算机与通信工程学院,江苏淮安 223003;2.南京爱立信熊猫通信有限公司,江苏南京 211100) 摘要:将原有的微带线不连续性等效电路模型移植到硅衬底双层微带线上,分析其开路端、T型接头的不连续性以 及 由其不连续性部分组成的电路组件分支线耦合器.经实例验证发现,所得等效电路模型计算结果与数值计算结 果相比,其S参量的平均误差小于2%,充分表明了所得等效电路模型的正确性和有效性. 关键词 :硅衬底;双层微带线;不连续性;等效电路模型;开路端 中图分类号:TN811 文献标识码:A Studyofthediscontinuityequivalentcircuitofdouble-layer microstrip linewithSiliceoussubstrate YU Zheng—yong 。CAIW en—bo。 (1.SchoolofComputerandCommunicationEngineering,Huai’anCo llegeofInformationTechnology,Huai’an 223003,China;2.Nanjing EricssonPanda(二0mmunicationsCompanyLtd.,Nanjing 211100,China) Abstract:Existentequivalentcircuitmodelofdiscontinuityofmicrostriplinewastransplantedtodouble- layermicrostriplinewithSiliceoussubstrateSOastoanalyzethediscontinuityofopencircuitendsandT_ junctionsandthebranch-linecouplercomposedofpartswithvariousdiscontinuities.Itwasfoundbya practicaIexampletakenasaverificationthattheaverageerrorofS-parametersofobtainedequivalentcir— cultmodelwaslessthan2 comparedwithnumerica1results,sufficientlyshowingthattheequivalentcir— cultmodelobtainedwasvalid. Keywords:Siliceoussubstrate;double-layermicrostrip line;discontinuity;equivalentcircuitmodel; opencircuitend 射频集成电路 (RFIC)在无线通信中得到了广 续性问题[5],后来本文作者YU又将该通用模型移 泛应用.硅作为一种低成本材料在低频段的应用较 植到偏心带状线不连续分析中l6].本文继续研究如 为广泛,同时硅介质具有损耗特性,在设计和分析硅 何将文献1-3]的等效电路模型移植到硅衬底双层微 衬底RFIC器件以及相关集成电路的过程中应加以 带线中,并结合实例进行不连续性的分析和结果验 考虑,目前 已有人研究过有耗介质上微带线的传输 证.经对比,所得模型的计算结果与 IE3D软件仿真 特性_1].一般来说,此类复杂的RFIC电路都是由 结果相比,平均误差小于 2 ,一致性 良好.该通用 多个不连续性部分构成的,比如开路端、阶梯变换、 等效电路模型的构建可以大幅度提高整体电路的分 间隙、拐角以及 T型接头等,因此这些不连续性部

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