硅胶表面Cd2+印迹聚合物的制备及其吸附性能的研究.pdfVIP

86 · ～ 工业安全与环保 2014年第40卷第2期 · Industrial SafetyandEnvironmentalProtection February2014 硅胶表面 Cd2+印迹聚合物的制备 及其吸附性能的研究* 昌晶 ，2 杜芳林2 亓聪聪 田红景2 (1．青岛农业大学资源与环境学院 山东青岛266109；2．青岛科技大学 山东青岛266042) 摘 要 以c 作为模板，7一甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH一570)为交联剂，硅胶作为载体， 制备特性c 硅胶表面印迹聚合物，利用扫描电镜和x射线衍射仪表征了聚合物的结构，采用平衡吸附法研 究了该印迹聚合物的吸附性能和选择识别能力。结果表明，该印迹聚合物的最大吸附量分别为4．3mg／g；对 C 的吸附行为符合Lagergren第一速率定律；25min即可达到吸附平衡；当pH=5 7时，该印迹聚合物保持 了较好的吸附容量。 关键词 Cd2 表面印迹聚合物 吸附性能 StudyontheAdsorptionandPreparationofhteCadmium (Ⅱ)ion ImprintedPolymerSupportedonSiliconDioxide CHANGJingI·DUrna~n2 QICongocngt TIANHongjing2 (1．CollegeofRecourseandEnvironment，Qi,,gd．oAgriculturalUnitersity Qingdao，Shandong266109) Abstraa A imprintedpolymersupportedOilsilicondio~ddeispreparedbyusingCd2 astemplateandKH一570as ~．,ssank~sagent．Thestructureofthepolmyerischaracterizedbyscanningelcetronmicroscopy(SEM)andX—raydi~ae- tonmter(XRD)．Theabsorptionabiliytandrecognitionbailiytoftheionmiprintedmaterialsisstudiedusingequilibriumad· sorpfionmethod．Theexperimentresultsshowthatthebiggest~q~ilihrimn adsorbateuptakecallreach4．3ms／gandthead- sorptionbehaviorofca2 ionsonthemiprintedmaterialsisocrrespondingtoLangmuir’sfirstlaw；theadsorptionequllibrium isarrivde in25 rains；htemiprintde materialsremainsagoodadsoprtioncapacitywithpHvaluefrom 5to7． KeyWords Cd2 imprintde polymer absorptionbailiyt 0 引言 可以回收Cd2。 离子印迹技术是通过合成印迹聚合物来识别复 本文采用表面印迹技术，以壳聚糖为功能分子， 杂的离子系统的技术，它通过离子印迹聚合物中的 KH一570为交联剂，硅胶作为载体，制备对 Cd2具 多重空穴，对模板离子及其类似物进行选择性吸附， 有选择吸附性的表面印迹聚合物。通过准确量取一 目前已应用于分离[卜引、传感器化学E3-4j、催化[51和 定浓度的Cd2标准储备液以及一定量的表面印迹 新型药物设计[6-7J等多个领域，展现出良好的前景， 聚合物进行混合反应，通过改变实验条件，考察印迹 是一种极有前途