我国低温等离子体研究进展Ⅱ!.PDFVIP

低温等离子体及其应用专题 我国低温等离子体研究进展（ ） ! ! 江- 南. （中国科学院物理研究所- 北京- /00010 ） （上接2008 年第2 期第/?0 页） 4- 低温等离子体应用 随着我国国民经济的发展，低温等离子体的应 用获得了越来越多的重视，这从国内越来越多的等 离子体实验室的成立，和一些小的实验室扩大成地 方的重点实验室可以得到证明 事实上，大多数涉及 到材料或物质的理工科实验室都会有一些与低温等 图2- 我国等离子体辅助薄膜沉积研究文献按材料种 离子体有关的装置或研究，无论该实验室是研究物 类的分布 理的、化学的、生物的或各类工程的，毕竟宇宙中 ［/］ 采用金属有机化合物化学气相沉积（DEAFG ）方法 55@ 以上的物质处于等离子体态 下面就我国低 温等离子体的应用方面分类举一些例子 制备［/?2 ］ 顾彪等［/02 ，/0? ］开发了一种采用 9AH 等离 子体辅助的DEAFG 方法，该方法的优点是可以在 ! # 等离子体辅助薄膜沉积 较低的基片温度下制备高质量的C*B 薄膜，并且通 在我国，低温等离子体应用最广泛的领域可能 过氢和氮等离子体处理蓝宝石基片，可以减小基片 要属薄膜材料的制备 根据发表的论文，如果将他们 与C*B 薄膜之间的晶格失配 按材料种类来分，则可以得到如图2 所示的分布 由 该图可以看到，在我国，与碳有关的论文最多，占了 ! $# 等离子体聚合 所有与等离子体辅助材料制备有关发表论文数的四 等离子体聚合实际上是一种统称，他至少包含 成以上 这里所说的与碳有关的材料主要有：金刚石 了以下三方面的内容： ［//? ］ ［//7 ］ ［//4 ］ 4 2 /- 等离子体诱导聚合 薄膜 、类金刚石薄膜 、AB 硬质薄膜 、碳纳 米管薄膜等 这些材料主要是应用在刀具表面加 这是一种传统意义上的聚合，单体分子通过等 硬［//8—//5 ］、材料表面耐摩擦［/20—/22 ］、显示器件中阴 离子体的激活发生链接反应，形成长链大分子 例 极材料场电子发射增强［/2?—/24 ］等 吕反修［/28 ，/23 ］等 如，图? 是後晓淮等［/?? ，/?7 ］采用的等离子体诱发体 采用电弧等离子体制备的厚度可达2:: 的金刚石 聚合装置示意图 将丙烯酰胺单体放入反应器中，抽 片则可以用于红外透射窗口材料 真空后充入一定量氩气，采用射频放电对丙烯酰胺 硅和锗是传统的半导体材料［/21—/?0 ］，发达国家 单体进行等离子体辐照，使其被激活，然后将去离子 在这方面的研究是最多的 相比而言，我国在这方面 水放入反应器，使丙烯酰胺的晶体溶解，聚合反应随 的研究比较薄弱，这可能与我国微电子产业基本依 后自发进行 这种高分子的长链聚丙烯酰胺可用作 ［/?4 ］ 赖进口有关 絮凝剂和油田驱油剂 张正彪等 也研究了甲基 目前，固体光源有取代传统电灯泡和荧光灯管 丙烯酸正辛酯（IDE9 ）、甲基丙烯酸正十二酯（IDJ 的趋势 固体光源中的一种重要材料是 C*B 薄 G9 ）、甲基丙烯酸正十四酯（IDK9 ）等的等离子体