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改性剂对旋转法犁犻犗2减反膜均匀性的影响-强激光与粒子束
第 卷第 期 强 激 光 与 粒 子 束 ,
22 12 Vol.22 No.12
年 月 ,
2010 12 HIGH POWERLASERANDPARTICLEBEAMS Dec. 2010
文章编号: ( )
10014322201012286506
改性剂对旋转法犛犻犗2减反膜均匀性的影响
杨 伟, 李海波, 张清华, 马红菊, 惠浩浩, 刘志超, 马 平
(成都精密光学工程研究中心,成都 610041)
摘 要: 分析了采用旋转涂膜法制备溶胶 凝胶 减反膜过程中条纹缺陷产生的机理,利用含氟醇类
SiO
2
试剂对减反膜溶胶进行改性,使溶胶链段柔顺性及流动性得到改善。在光学显微镜下对改性前后的膜层进行
了对比和分析,对膜层的表面形貌、表面粗糙度以及透射比等特性进行了表征。结果表明:溶胶改性之后的膜
层未出现条纹缺陷,表面粗糙度均方根值从 4.55nm下降到小于 1.00nm,膜层表面质量有了较大提高;改性
前后膜层的增透性能相当,在熔石英基片上制备的膜层峰值透射比为 99.60% 99.89%,膜层激光损伤阈值
~
2
为 / 。
21.0 25.3Jcm
~
关键词: 旋转涂膜; 条纹缺陷; 溶胶 凝胶; 减反膜; 含氟醇
中图分类号: 文献标志码: : /
O484.4 A 犱狅犻10.3788HPLP2865
晶体元件在激光装置中承担频率转换任务,是极其重要的光学元件。对于混频晶体,需要兼顾双波长工作
的光谱特性,才能最大程度地减少激光能量的损耗,保证系统的运行效率。鉴于此,混频晶体的前后表面需涂
制不同种类的减反膜,以实现激光频率转换过程中各工作波长最大透射比的指标,满足激光器设计的要求。目
前,国内主要采用提拉涂膜方式制备大口径晶体元件的减反膜,在元件两面只能涂制相同膜层,这在很大程度
上限制了激光器的运行效率。而旋转涂膜法可以在元件两面涂制不同的膜层,具有制作工艺简单、制备时间短
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1
等优点 ,并且涂膜所需的溶胶用量少,这可降低溶胶合成的压力,有利于高功率激光装置元件涂膜效率的提
[]
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