以电解混凝法处理回收化学机械研磨废水-东海大学.pdfVIP

第八屆水再生及再利用研討會 October 17, 2003, Feng Chia University 以電解混凝法處理回收化學機械研磨廢水 1 2, * 3 林柏廷 、鄧宗禹 、黃志彬 1.國立交通大學環境工程研究所 (03)5712121轉 55553 veva.ev91g@nctu.edu.tw 2.東海大學環境科學系助理教授 (04 3050 wden@mail.thu.edu.tw 3.國立交通大學環境工程研究所教授 (03)571-2121轉 55507 cphuang@cc.nctu.edu.tw 國科會研究計畫編號 : NSC90-2211-E-317-001 摘要 化學機械研磨為現今積體電路與光電元件不可或缺的製程之一 ，其產生的大量稀釋 研磨廢水的處理也成為不容忽略的問題 。此股廢水具有顆粒微小 、粒徑分佈狹窄 、及穩 定性高的性質 。本研究之目的即是針對此股廢水之特殊性質 ，提 出 「電解混凝」 之處理 程序 ，並設計一利用電極板(陽極為鐵板 、陰極為不鏽鋼板) 以交叉上下排列方式組成之 反應槽 ，形成的彎曲流道增加顆粒與極板間之接觸機率 ，藉此增加顆粒的去除效率 。本 研究以人工配製之研磨廢水以及國內某晶圓廠之鹼性研磨廢水為處理對象 ，利用不同之 操作條件 ，包括施加電流 、水力停留時間 、不同初始濁度及不同極板數目進行實驗 ，進 而以廢水濁度去除效率找出最適之操作條件，並觀察出流水之總鐵含量與導電度的變 化，以探討各參數對於濁度去除、導電度去除、出流水最終 pH 、總有機碳去除及殘餘 鐵濃度之影響與可能機制 。實驗結果顯示 較高操作電流， 、較長之水力停留時間 、較 多 之極板數及較低之初始濁度均能使濁度之去除率增加 ，且操控之操作條件下人工廢水最 佳之濁度去除效率可達到 95% ，實廠廢水更達到99%的效果。研究中並提出「庫侖電 量」作為電流與水力停留時間之綜合參數 ，經實驗結果證實此參數與濁度去除率具有高 度之線性關係 。而當庫侖電量超過一上限值時 則發現去除效率趨於平緩， ，顯示電解混 凝漸達飽和狀態。 關鍵字：電解混凝，化學機械研磨，濁度去除，水處理，庫侖電量。 前言 近年來由於 IC 產業之蓬勃發展，晶圓之製作逐漸朝向高密度、高積集和高度機能 之導向邁進 ，在追求高密度及導線多層化之趨勢中 因考慮製程中投影曝光之解析度及， 焦點景深問題 ，全面平坦化乃是必要的。目前 眾多廠商皆是以化學機械研磨， (Chemical Mechanical Polishing, CMP) 技術來達到此需求。然而，CMP 製程中會耗費大量的超純 水 ，許多含有研磨液之廢水也隨之產生 。以新竹科學園區為例 ，園區目前每日廢水處理 量約 8.6萬噸 [1] ，半導體業貢獻的比例就佔了八成 [2] ，而CMP 製程用水佔半導體業 192 中國土木水利工程學會環境工程委員會 逢甲大學環境工程與科學學系 第八屆水再生及再利用研討會 October 17, 2003, Feng Chia University 總用水量的 35% [3] 。依此換算 ，CMP廢水量約佔科學園區總廢水量的比例約 25% ，面 對如此大量的廢水，處理方法之選擇將會是決定園區水質的關鍵因素之一。 化學機械研磨液中因含有許多奈米級之顆粒 ，且研磨液本身顆粒之懸浮性極穩定， 造成廢水處理上之困難 。目前園區廠商大部分皆是採用化學混凝程序處理之 ，但化學混 凝程序常會因為操作不當使得混凝劑添加過多 ，