微纳制造技术-西安交通大学机械学院.DOC

《微纳制造技术》课程大纲 1．课程编号：MACH501401 2．课程体系/类别：专业类 3．学时/学分：40学时/2学分 4．先修课程：大学物理、理论力学材料力学工程材料基础 5．适用专业：机械工程 二、课程目标及学生应达到的能力 《微纳制造技术》是工科高等学校机械类专业的一门专业选修课程，旨在向学生传授微纳制造技术的基本知识以及如何在机械工程中如何应用这些知识，使学生掌握硅微加工、非硅微加工、纳米加工等主流的微纳制造技术，并可根据机械工程中对微纳零部件的要求进行相应的分析、设计与制造，支撑毕业要求中的相应指标点。 课程目标及能力要求具体如下： 课程目标1. 了解微纳制造技术的基本概念和技术体系，掌握各种硅微加工技术的基本原理、加工装备、工艺参数、技术特点； 课程目标2. 掌握高能束纳米加工（FIB、EBL、飞秒激光）、纳米压印技术、ALD/AFM/STM 等各种纳米加工技术的基本原理、加工装备、工艺参数、技术特点； 课程目标3. 培养学生微纳零部件的方案设计、工艺设计和参数计算的能力； 课程目标4：通过课内实验、课外实验与课程学习结合，培养和锻炼学生在微纳制造技术方面的实验设计与分析能力。 毕业要求 毕业要求指标点 课程目标对毕业要求的支撑关系 1、工程知识 1.3 能够识别复杂工程问题所涉及的学科知识和专业领域，并能够将工程基础和专业知识贯穿于机械零部件设计，单元产品开发，系统设计分析及制造工艺设计的全过程。 课程目标1、2 3、设计/开发解决方案 3.2 能够在安全、环境、法律等社会制约因素下，对设计、制造及其自动化中的复杂工程问题提出解决方案，并对其可行性进行研究。 课程目标3 4、研究 4.2 掌握工程试验技能，能够根据复杂工程问题设计试验方案、搭建试验系统，进行试验。 课程目标3、4 5、使用现代工具 5.1 能够了解和掌握机械产品的设计、制造及自动化所需的现代工具及方法。 课程目标1、2、4 三、课程教学内容与学时分配 序号 教学内容 教学要求 推荐学时 教学方式 对应的课程目标 1 1绪论 （1）微纳制造技术基本概念 （2）微纳制造技术特点 （3）微纳制造技术发展趋势与应用概况 1.了解本课程研究的对象、内容； 2.了解微纳制造技术体系和特点； 3.了解机械原理学科的发展现状。 1 讲授 1 2 2 硅微基本加工技术 （1）MEMS硅基材料 （2）光刻 （3）刻蚀 （4）沉积与改性 1.掌握单晶硅的晶体结构特征，了解常见硅基材料及应用； 2.学习光刻原理、工艺流程及光刻质量评价方法； 3.掌握硅刻蚀基本原理和影响因素； 4.掌握薄膜沉积及硅改性基本方法。 6 讲授 1、3 3 3 等离子体硅微加工技术 （1）等离子体简介 （2）等离子体刻蚀 （3）等离子体薄膜沉积 （4）等离子体改性 （5）典型微结构加工及应用 1.了解等离子体概念与特点； 2.掌握等离子体沉积、刻蚀、表面改性的原理与特点； 3.可根据微结构特点选择工艺并进行工艺参数设计。 5 讲授 1、3 4 4纳米加工技术概论 （1）纳米主要技术与应用介绍 1.了解纳米加工的主要技术体系、特点和应用。 2 讲授 2 5 5 高能束纳米加工 （1）聚焦离子束加工（FIB） （2）电子束光刻加工（EBL） （3）飞秒激光加工 1.了解聚焦离子束、电子束光刻、飞秒激光技工原理； 2. 掌握各种方法的适用性及特点。 3 讲授 2、3 6 6 纳米压印 （1）HEL （2）SFIL （3）其它纳米压印技术 1.了解纳米压印技术分类； 2.掌握HEL、SFIL的工艺流程、关键工艺参数、工艺优缺点及应用； 3.了解软压印等其它纳米压印技术原理、特点与应用。 5 讲授 2、3 7 7其它纳米加工技术 （1） ALD加工 （2） STM/AFM 加工 1．掌握ALD进行纳米加工的原理和工艺特点； 2.掌握STM/AFM进行纳米加工的原理和工艺特点。 2 讲授 2 8 实验一：光刻 1.掌握光刻工艺的基本流程； 2.掌握匀胶、曝光、显影等工艺的工艺参数。 2 实验 1、4 9 实验二：溅射沉积 1.了解溅射设备的基本组成和工作原理； 2.掌握溅射沉积的工艺过程和主要工艺参数。 2 实验 1、4 10 实验三：PECVD 1.了解PECVD设备和工作原理； 2.掌握PECVD的工艺过程和主要工艺参数。 2 实验 1、4 11 实验四：湿法刻蚀 1.掌握湿法刻蚀的工艺参数和对刻蚀结果的影响方式； 2.掌握不同晶向单晶硅片湿法刻蚀后的结构特征。 2 实验 1、4 12 实验五：干法刻蚀 1.了解干法刻蚀（ICP）设备和工作原理； 2. 掌握ICP的主要工艺参数，理解深硅刻蚀中的工艺实现方法和所加工的微结构特征。 2 实验 1、4