污水厂构筑物铭牌示意图污水厂构筑物铭牌示意图.pptVIP

厂区构筑物介绍标识牌设置数量 * 共20块 合计 12 配电房立一块。 1块 配电房 11 粗格栅前的草地立一块； 1块 粗格栅 1 鼓风机房两个门口各立一块； 2块 鼓风机房 10 脱水机房正门附近立一块； 1块 脱水机房 9 出水消毒池立一块； 1块 出水消毒池 8 一、二期回流泵房各立一快； 2块 回流泵房 7 二沉池1#、 2#、 3#、 4#各立一块； 4块 二沉池 6 至氧化沟的上落台阶附近，一期氧化沟立三块，二期氧化沟立二块； 5块 氧化沟 5 上细格栅、沉砂池的楼阶附近立一块； 1块 沉砂池 4 上细格栅、沉砂池的楼阶附近立一块； 1块 细格栅 3 提升泵房门口附近立一块； 1块 提升泵房 2 备注 数量 名称 序号 粗格栅 作用：拦截污水中较大悬浮物或漂浮物， 以保证后续构筑物或提升泵设备 正常工作。 参数：设计流量4500m3/h、栅距20mm、 渠宽×渠深=1.6m×6.83m 。 设备：栅条回转式格栅、皮带输送机。 提升泵房 作用：将污水提升至后续处理单元所需 要的高度，使其实现重力流。 参数：设计流量100000m3/d、泵流量有 2084m3/h、1674m3/h 、843m3/h 水池深7.90m。 设备：潜水提升泵、预处理配电系统。 细格栅 作用：拦截污水中大于5mm的悬浮物或 漂浮物，以减轻后续构筑物负荷。 参数：栅距5mm、栅宽2000mm、 渠宽×渠深=2.2m×1.4m 。 设备：回转齿耙式格栅、螺旋输送机。 沉砂池 作用：从污水中分流出相对密度大于1.5 且粒径在0.2mm以上的颗粒物质 。 参数：设计流量120000m3/d，池深5m， 池内径5.5m，水深4.51m。 设备：旋流沉砂器、罗茨鼓风机、砂水 分离器。 鼓风机房 作用：向生化池曝气系统鼓风通氧的设 施 ，为活性污泥进行代谢提供氧 气。 参数：标准6级离心鼓风机，P=0.601ba Q=85Nm3/min， N=104kW。 设备：离心鼓风机（6台）。 配电房 作用：污水处理厂内部设置供配电系统， 保证生产正常运和监控管理。 参数：变电所设置两回路10KV电源供电 双变压器同时运行供电。 设备：高、低压配电系统，变压器。 脱水机房 作用：将生化系统排除的剩余污泥实现 脱水，便于运输与填埋等后续处 理。 参数：单台脱水机最大处理能力40 m3/h 或360kgDS/h 。 设备：脱水机、加药系统、污泥泵等 出水消毒池 作用：利用紫外线发生装置产生的强紫 外线照射水流，使水中的各种病 原体细胞受到破坏而失去活性。 参数：池长14.8m、池宽7m、池深3.6m 设备：紫外线消毒设备、清水泵 。 一期氧化沟 作用：利用微生物的新陈代谢功能使污 水中有机污染物被降解，使污水 得以净化的生化处理设施。 参数：池长93.6m、池宽51m、池高6m 设备：水下搅拌器、微孔曝气头 。 二期氧化沟 作用：利用微生物的新陈代谢功能使污 水中有机污染物被降解，使污水 得以净化的生化处理设施。 参数：池长93.7m、池宽55m、池高6m 设备：水下搅拌器、管式曝气膜。 二沉池1# 作用：将氧化沟的混合液实现泥水分离， 并使水澄清和进行污泥浓缩。 参数：池径45m、池高4.5m。 设备：双周边吸刮泥机 。 二沉池2# 作用：将氧化沟的混合液实现泥水分离， 并使水澄清和进行污泥浓缩。 参数：池径45m、池高4.5m。 设备：双周边吸刮泥机 。 二沉池3# 作用：将氧化沟的混合液实现泥水分离， 并使水澄清和进行污泥浓缩。 参数：池径38m、池高4.5m。 设备：单边吸刮泥机 。 二沉池4# 作用：将氧化沟的混合液实现泥水分离，